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Disposer of connection member for kitchen sink bowl 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • 23-01
출원번호 US-0491601 (2014-05-22)
등록번호 US-D733262 (2015-06-30)
발명자 / 주소
  • Kang, Young Boung
출원인 / 주소
  • Kang, Young Boung
대리인 / 주소
    Thomson, Daniel A.
인용정보 피인용 횟수 : 33  인용 특허 : 7

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

The ornamental design for the disposer of connection member for a kitchen sink bowl, as shown and described.

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Rodriguez, Orestes R., Concealed floor drain.
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  2. Chen, Kun-Chih, Connecting ring for water spraying head.
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  3. Svensson, Ron, Decorative disposer flange and strainer assembly.
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  4. Lordahl, Var; Koepsel, Scott H., Disposal adapter.
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  5. Wang Wen-Hsing (No. 26 ; Alley 55 ; Lane 12 ; Tzu Chiang 3rd St. ; Wu Chi Chen Taichung Hsien TWX), Drop head structure.
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  6. Beaudoin, Pierre-Laurent, Frame.
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  7. Schulz, Victor, Garbage disposal blade guard.
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이 특허를 인용한 특허 (33)

  1. Ootsuka, Fumio, 3D stacked multilayer semiconductor memory using doped select transistor channel.
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  2. Oosterlaken, Theodorus; de Ridder, Chris; Jdira, Lucian, Apparatus and method for manufacturing a semiconductor device.
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  3. Lowitz, Gregory E., Caliper crack mark.
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  4. Lowitz, Gregory E., Caliper crack mark.
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  5. Lowitz, Gregory E., Caliper crack mark.
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  6. den Hartog Besselink, Edwin; Garssen, Adriaan; Dirkmaat, Marco, Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly.
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  7. Raisanen, Petri; Shero, Eric; Haukka, Suvi; Milligan, Robert Brennan; Givens, Michael Eugene, Deposition of metal borides.
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  8. Zhu, Chiyu; Shrestha, Kiran; Haukka, Suvi, Deposition of metal borides.
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  9. Rohn, David M.; Woods, David T., Drain pipe discharge connector.
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  10. Kawamura, Khotaro; Kashiwagi, Makoto; Ikeda, Hiroshi, Inner cylinder for exhaust gas treatment apparatus.
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  11. Hwang, Jae Kwang, Insert for cosmetic container.
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  12. Godlewski, Robert; Swiney, Michael; Goggans, David, Light socket cover.
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  13. Pore, Viljami, Method and apparatus for filling a gap.
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  14. Pore, Viljami; Knaepen, Werner; Jongbloed, Bert; Pierreux, Dieter; Van Aerde, Steven R. A.; Haukka, Suvi; Fukuzawa, Atsuki; Fukuda, Hideaki, Method and apparatus for filling a gap.
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  15. Pore, Viljami; Knaepen, Werner; Jongbloed, Bert; Pierreux, Dieter; Van Der Star, Gido; Suzuki, Toshiya, Method and apparatus for filling a gap.
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  16. Kang, DongSeok, Method for depositing thin film.
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  17. Kato, Richika; Nakano, Ryu, Method for protecting layer by forming hydrocarbon-based extremely thin film.
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  18. Zaitsu, Masaru; Kobayashi, Nobuyoshi; Kobayashi, Akiko; Hori, Masaru; Kondo, Hiroki; Tsutsumi, Takayoshi, Method of cyclic dry etching using etchant film.
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  19. Knaepen, Werner; Maes, Jan Willem; Jongbloed, Bert; Kachel, Krzysztof Kamil; Pierreux, Dieter; De Roest, David Kurt, Method of forming a structure on a substrate.
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  20. Lee, Choong Man; Yoo, Yong Min; Kim, Young Jae; Chun, Seung Ju; Kim, Sun Ja, Method of forming metal interconnection and method of fabricating semiconductor apparatus using the method.
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  21. Chun, Seung Ju; Yoo, Yong Min; Choi, Jong Wan; Kim, Young Jae; Kim, Sun Ja; Lim, Wan Gyu; Min, Yoon Ki; Lee, Hae Jin; Yoo, Tae Hee, Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method.
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  22. Kohen, David; Profijt, Harald Benjamin, Methods for depositing a doped germanium tin semiconductor and related semiconductor device structures.
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  23. Raisanen, Petri; Givens, Michael Eugene, Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures.
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  24. Zhu, Chiyu; Asikainen, Timo; Milligan, Robert Brennan, NbMC layers.
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  25. Salzer, Ray, Plumbing fitting.
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  26. Margetis, Joe; Tolle, John; Bartlett, Gregory; Bhargava, Nupur, Process for forming a film on a substrate using multi-port injection assemblies.
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  27. Alokozai, Fred; Milligan, Robert Brennan, Process gas management for an inductively-coupled plasma deposition reactor.
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  28. Zhu, Chiyu, Selective film deposition method to form air gaps.
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  29. Kim, Young Jae; Choi, Seung Woo; Yoo, Yong Min, Semiconductor device and manufacturing method thereof.
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  30. Xie, Qi; de Roest, David; Woodruff, Jacob; Givens, Michael Eugene; Maes, Jan Willem; Blanquart, Timothee, Source/drain performance through conformal solid state doping.
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  31. Tolle, John, Structures and devices including germanium-tin films and methods of forming same.
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  32. Jeong, Sang Jin; Han, Jeung Hoon; Choi, Young Seok; Park, Ju Hyuk, Susceptor for semiconductor substrate processing apparatus.
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  33. Gledhill, Jeremy A.; Dowling, Martin; Graham, Peter D., Tube coupling.
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