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Method and apparatus for cleaning substrate

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-001/04
  • H01L-021/67
출원번호 US-0037487 (2011-03-01)
등록번호 US-9089881 (2015-07-28)
우선권정보 JP-2010-043784 (2010-03-01)
발명자 / 주소
  • Wang, Xinming
  • Oikawa, Fumitoshi
  • Ono, Haruko
  • Hombo, Teruaki
출원인 / 주소
  • EBARA CORPORATION
대리인 / 주소
    Wenderoth, Lind & Ponack, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 24

초록

A substrate is cleaned by performing a scrubbing process on a surface to be cleaned of the rotating substrate with a roll-shaped cleaning member while holding an outer circumferential surface of the roll-shaped cleaning member in contact with the surface to be cleaned of the substrate across a prede

대표청구항

1. An apparatus for cleaning a rotating substrate, said apparatus comprising: a roll-shaped cleaning member for performing a scrubbing process on a surface to be cleaned of the rotating substrate while holding an outer circumferential surface of the roll-shaped cleaning member in contact with the su

이 특허에 인용된 특허 (24)

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