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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0653184 (2012-10-16) |
등록번호 | US-9111703 (2015-08-18) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 279 |
Sensor stack venting techniques are described. In one or more implementations, one or more vent structures are formed within layers of a pressure sensitive sensor stack for a device. Vent structures including channels, holes, slots, and so forth are designed to provide pathways for gas released by f
1. An apparatus comprising: a pressure sensitive sensor stack having a plurality of layers that include one or more feature elements to implement accessory functionality provided by the apparatus;one or more vent structures formed in the pressure sensitive sensor stack to convey gases released by th
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