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연합인증

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Systems and methods to prevent back-flash in an abatement system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F23D-014/82
  • B01D-053/38
  • F23G-007/06
  • B01D-053/18
  • B01D-053/78
  • F23G-005/50
출원번호 US-0269967 (2014-05-05)
등록번호 US-9138679 (2015-09-22)
발명자 / 주소
  • Messineo, Daniel L.
  • LoBianco, Robert T.
  • Johnsgard, Mark W.
출원인 / 주소
  • Airgard, Inc.
대리인 / 주소
    Gard & Kaslow LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 4

초록

Abatement systems are used to remove harmful pollutants resulting from manufacturing processes. Prior art abatement systems can dangerously back-flash due to, for example, changes in gas velocity and if the inlets become constricted due to clogs. To prevent back-flash a sprayer is introduced to an i

대표청구항

1. An abatement system comprising: a main burner nozzle mounted at a superior end of a reaction chamber;an inlet chamber forming an annulus surrounding the main burner nozzle, the inlet chamber fluidly connected to the reaction chamber to allow liquid and incoming gas to pass from the inlet chamber

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Culpepper ; Jr. Clifford (Charlotte NC), Automatic high-low burner operation.
  2. Vickery Earl (San Jose CA), Flame arresting conduit section, combustor and method.
  3. Sujata,Mark L., Method and apparatus for destruction of vapors and waste streams using flash oxidation.
  4. Germerdonk Rolf (Kaiserslautern DEX) Huning Werner (Odenthal-Hahnenberg DEX) Cirkel Rudolf (Cologne DEX) Brinkmann Gunter (Tonisvorst DEX), Process and apparatus for thermally purifying effluent gases.
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