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Apparatus for liquid treatment of work pieces and flow control system for use in same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F16K-031/02
  • F17D-001/00
출원번호 US-0686527 (2012-11-27)
등록번호 US-9146007 (2015-09-29)
발명자 / 주소
  • Schwaiger, Michael
  • Goller, Alois
  • Miggitsch, Christopher
출원인 / 주소
  • LAM RESEARCH AG
대리인 / 주소
    Young & Thompson
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 21

초록

A flow control system in an apparatus for treating a work piece controls a flow rate of treatment liquid dispensed from a liquid dispenser. The system includes a flow meter that measures a flow rate of liquid being supplied to the liquid dispenser, a controller that receives signals indicative of a

대표청구항

1. Apparatus for treating a work piece, comprising: a holder configured to hold the work piece in a predetermined orientation;a liquid dispenser positioned relative to said holder so as to dispense a treatment liquid onto a surface of the work piece when positioned on said holder; anda flow control

이 특허에 인용된 특허 (21)

  1. Lin Juen-Kuen,TWX ; Lai Chien-Hsin,TWX ; Peng Peng-Yih,TWX ; Chang Chia-Jui,TWX, Chemical mechanical polishing machine.
  2. Nangoy,Roy C.; D'Ambra,Allen L.; Rabinovich,Yevgeniy; Chen,David Z.; Li,Tao, Closed loop control on liquid delivery system ECP slim cell.
  3. Stoll Kurt (Lenzhalde 72 7300 Esslingen DEX), Control valve unit for the cylinder of a fluid actuator.
  4. Ijichi,Eitaro; Osugi,Shigeru, Diaphragm valves.
  5. Cram Robert E. (Ridgecrest CA) Gill Walter (China Lake CA) Loundagin James A. (China Lake CA), Digital flow control system.
  6. Maggio Joseph D. (Cook County IL), Flow control system.
  7. Matsuzawa Hironori,JPX ; Hida Tsuyoshi,JPX ; Sasao Kimihito,JPX, Flow control valve.
  8. Igawa,Akinori; Takemoto,Shoji, Flow control valve and flow control device.
  9. Morikawa,Fumio; Kondou,Hiroshi, Flow rate control device.
  10. Hirata, Kaoru; Sawada, Yohei; Dohi, Ryousuke; Nishino, Kouji; Ikeda, Nobukazu, Flow rate ratio variable type fluid supply apparatus.
  11. Collier Nigel A. (13 Frome Close Cove ; Farnborough ; Hampshire GB2) Clements John H. (9 Krooner Rd. Camberley ; Surrey ; GV15 2AP GB2), Fluid flow apparatus and method.
  12. Nawa, Motoyuki; Iwanaga, Shigeru; Nanba, Mitsuo, Gas leak detection system.
  13. Sund, Wesley E.; Dille, Joseph C.; Barger, Michael J.; Pawlas, Gary E., High purity fluid delivery system.
  14. Chumley Calvin L. (St. Louis MO), Hot water valve.
  15. Gordon Daniel J. (Newtown CT), Hybrid valving system for varying fluid flow rate.
  16. Trotter, Victor D., Hydraulic control system.
  17. Kaneko Hitoshi (Tokyo JPX) Ichikawa Shunichi (Tokyo JPX), Hydraulic control system utilizing a plurality of branch passages with differing flow rates.
  18. Nojo Haruki,JPX ; Nakata Rempei,JPX ; Kawashima Kiyotaka,JPX, Semiconductor device polishing apparatus having improved polishing liquid supplying apparatus, and polishing liquid supplying method.
  19. Fukano Yoshihiro,JPX ; Maruyama Tetsuro,JPX, Suck back valve.
  20. Sumnitsch Franz (Klagenfurt ATX), Support for slice-shaped articles and device for etching silicon wafers with such a support.
  21. Tofte S. David (Mankato MN), Tube metering control system.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Ohmi, Tadahiro; Saito, Masahito; Hino, Shoichi; Shimazu, Tsuyoshi; Miura, Kazuyuki; Nishino, Kouji; Nagase, Masaaki; Sugita, Katsuyuki; Hirata, Kaoru; Dohi, Ryousuke; Hirose, Takashi; Shinohara, Tsutomu; Ikeda, Nobukazu; Imai, Tomokazu; Yoshida, Toshihide; Tanaka, Hisashi, Flow rate range variable type flow rate control apparatus.
  2. Ohmi, Tadahiro; Saito, Masahito; Hino, Shoichi; Shimazu, Tsuyoshi; Miura, Kazuyuki; Nishino, Kouji; Nagase, Masaaki; Sugita, Katsuyuki; Hirata, Kaoru; Dohi, Ryousuke; Hirose, Takashi; Shinohara, Tsutomu; Ikeda, Nobukazu; Imai, Tomokazu; Yoshida, Toshihide; Tanaka, Hisashi, Flow rate range variable type flow rate control apparatus.
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