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특허 상세정보

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Negative-type photoresist composition for thick film and use thereof

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) G03F-007/027    G03F-007/038   
출원번호 US-0222928 (2014-03-24)
등록번호 US-9170491 (2015-10-27)
우선권정보 TW-102138621 A (2013-10-25)
발명자 / 주소
  • Chen, Yi Jing
  • Chou, Nai Tien
  • Huang, Hsin Yi
  • Li, Yen-Cheng
출원인 / 주소
  • EVERLIGHT CHEMICAL INDUSTRIAL CORPORATION
대리인 / 주소
    Bacon & Thomas, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 3
초록
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The present invention relates to a negative-type photoresist composition for thick film, comprising: (A) 20 to 50 wt % of an alkali-soluble resin which is polymerized from a plurality of kinds of monomers, wherein the monomers includes compounds represented by formulas (1A) and (1B), and based on the weight ratio of the monomers to the alkali-soluble resin, the sum of the formula (1A) compound and the formula (1B) compound are 20 to 60%, and X of the formula (1A) and (1B) may be independently H, methyl or ethyl. (B) 10 to 30 wt % of crosslinker which ca...

대표
청구항
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1. A negative-type photoresist composition for thick film, comprising: (A) 20 to 50 wt% of an alkali-soluble resin which is polymerized from a plurality of kinds of monomers, wherein the monomers include compounds represented by formulas (1A) and (1B), and based on the weight ratio of the monomers to the alkali-soluble resin, the sum of the formula (1A) compound and the formula (1B) compound are 20 to 60%, and X of the formulas (1A) and (1B) is independently H, methyl or ethyl, (B) 10 to 30 wt% of crosslinker which is a bisphenol fluorene derivative mono...

인용문헌 (3)

  1. Kang, Hoon; Kim, Jae-Sung; Jung, Yang-Ho; Lee, Hi-Kuk; Kameyama, Yasuhiro; Mizuho, Yuuji; Kim, Jong-Cheol; Choi, Se-Jin, Negative photoresist composition and method of manufacturing array substrate using the same.
  2. Komori Shigeru,JPX ; Suda Kazuo,JPX ; Arima Masao,JPX ; Juni Miyako,JPX, Photocurable thermosettting resin composition developable with aqueous alkali solution.
  3. Nakamura Shigeo,JPX ; Oshimura Masahiko,JPX ; Mori Kenichi,JPX ; Yokota Tadahiko,JPX ; Koto Hiroyasu,JPX, Resin composition.

IPC 상위 출원인