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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0165438 (2014-01-27) |
등록번호 | US-9216398 (2015-12-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 18 인용 특허 : 318 |
A system comprising: a plasma production chamber configured to produce a plasma; a reaction chamber vaporize a precursor material with the plasma to form a reactive mixture; a quench chamber having a frusto-conical surface and a quench region formed within the quench chamber between an ejection port
1. A method of producing nanoparticles, the method comprising: vaporizing a precursor material with a plasma stream within a reaction chamber, thereby forming a reactive mixture stream comprising the vaporized precursor material entrained within the plasma stream;flowing the reactive mixture stream
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