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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | C02F-005/10 C02F-005/14 C02F-005/04 C02F-103/02 |
출원번호 | US-0976013 (2010-12-22) |
등록번호 | US-9221700 (2015-12-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 23 |
This invention relates to an improved method for inhibiting the formation and deposition of silica and silicate compounds in a water system. In particular, the method includes adding to the water system a relatively low molecular weight organic, anionic polymer. The polymer preferrably has an acrylic acid or methacrylic acid functionality and is preferrably selected from one or more of homopolymers of acrylic acid, a methacrylic acid/polyethylene glycol allyl ether copolymer, a homopolymer of methacrylic acid, an acrylic acid/polyethylene glycol allyl et...
1. A method for inhibiting the formation and deposition of silica and silicate compounds in a water system, the method comprising adding to the water in the water system about 10,000 ppm to about 100,000 ppm of one or more low molecular weight anionic polymers selected from the group consisting of: homopolymers of acrylic acid; copolymers of methacrylic acid and polyethylene glycol allyl ether; homopolymers of methacrylic acid; copolymers of acrylic acid and polyethylene glycol allyl ether; copolymers of acrylic acid and 1-allyloxy-2-hydroxypropane sulfo...