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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0142605 (2013-12-27) |
등록번호 | US-9281436 (2016-03-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 93 |
One embodiment of the present invention provides a sputtering system for large-scale fabrication of solar cells. The sputtering system includes a reaction chamber, a rotary target situated inside the reaction chamber which is capable of rotating about a longitudinal axis, and an RF power source coup
1. A sputtering system for large-scale fabrication of solar cells, comprising: a reaction chamber;a rotary target situated inside the reaction chamber, wherein the rotary target is configured to rotate about a longitudinal axis; andan RF power source coupled to the rotary target to enable RF sputter
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