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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0424604 (2013-07-26) |
등록번호 | US-9289743 (2016-03-22) |
우선권정보 | DE-10 2012 017 230 (2012-08-31) |
국제출원번호 | PCT/EP2013/002228 (2013-07-26) |
국제공개번호 | WO2014/032754 (2014-03-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 2 |
A system for the radiation treatment of substrates, which comprises, in a chamber above the substrate holders for fitting substrates to be treated, at least one radiation source, and wherein the chamber comprises means for maintaining a gas flow in the chamber with at least one gas inlet and at leas
1. A system for the radiation treatment of substrates, comprising: a chamber above at least one substrate holder for fitting substrates to be treated; andat least one radiation source in the chamber, wherein the chamber maintains a gas flow in the chamber with at least one gas inlet and at least one
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