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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0905624 (2010-10-15) |
등록번호 | US-9338871 (2016-05-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 17 |
Methods and systems for controlling temperatures in plasma processing chamber with reduced controller response times and increased stability. Temperature control is based at least in part on a feedforward control signal derived from a plasma power input into the processing chamber. A feedforward con
1. A method for controlling a process temperature during a plasma processing of a workpiece, comprising: determining a plasma power input to a process chamber performing the plasma processing on the workpiece;determining a feedback gain value and a feedforward gain value from a lookup table, wherein
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