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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0107680 (2011-05-13) |
등록번호 | US-9346691 (2016-05-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 2 |
An apparatus and method for simultaneously removing materials from fluids without the need for added chemicals, and without the formation of toxic byproducts, by high-density plasma reaction chemistry is described. Applications to removal of contaminants, such as pesticides, organics, PPCPs, and pat
1. An apparatus for removing materials from a fluid, comprising in combination: a chamber for containing the fluid having an electrically conducting cylindrical wall having an axis, an inlet for introducing the fluid at one end thereof arranged such that the fluid flows axially in the cylindrical po
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