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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0921301 (2013-06-19) |
등록번호 | US-9355821 (2016-05-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 4 |
A large-area plasma generating apparatus is disclosed, which includes a reaction chamber; a first electrode disposed in the reaction chamber; a second electrode parallel with the first electrode and disposed in the reaction chamber; and a discharge region formed between the first and second electrod
1. A plasma generating apparatus comprising: a reaction chamber;a first electrode disposed in the reaction chamber;a second electrode parallel with the first electrode and disposed in the reaction chamber;a discharge region formed between the first and second electrodes and a plasma can be formed th
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