[특허]Hazardous waste treatment process

Tetronics (International) Limited

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Hazardous waste treatment process

특허상세정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B23K-010/00 C03B-005/02 B09B-003/00 C03B-005/00 C04B-033/13 C04B-033/132 C04B-033/32 G21F-009/30 H05H-001/48
출원번호	US-0293799 (2007-03-20)
등록번호	US-9382144 (2016-07-05)
우선권정보	GB-0605570.1 (2006-03-20); GB-0700205.8 (2007-01-05)
국제출원번호	PCT/GB2007/001017 (2007-03-20)
§371/§102 date	20091208 (20091208)
국제공개번호	WO2007/107760 (2007-09-27)
발명자 / 주소	Deegan, David Chapman, Chris Ismail, Saeed
출원인 / 주소	Tetronics (International) Limited
대리인 / 주소	Senniger Powers LLP
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 11

초록

A method for treating hazardous waste comprising the steps of providing a plasma reactor, waste to be treated and a glass-forming host slag material; contacting within the plasma reactor the waste and the host slag material; and treating the waste and the host slag material using a plasma treatment to melt the host slag material and incorporate inorganic components of the waste within the host slag material, wherein the plasma is generated using an arc and the arc is passed through the host slag material.

대표
청구항
▼

1. A method for treating hazardous waste comprising: providing a plasma reactor comprising a crucible for holding hazardous waste to be treated and a glass-forming host slag material, the crucible having an inner wall having a cooled internal surface;introducing the glass-forming host slag material into the crucible of the plasma reactor in the absence of the hazardous waste to be treated and treating the glass-forming host slag material in the crucible using a first plasma treatment to melt the glass-forming host slag material while maintaining said cooled inner wall of the crucible below a solidus temperature of the glass-forming host slag material to cause glass-forming host slag material to solidify on said cooled internal surface of the inner wall of the crucible to form a solid interfacial coating of the glass-forming host slag material on said cooled internal surface of the inner wall of the crucible;introducing the hazardous waste to be treated into the crucible of the plasma reactor after introducing the glass-forming host slag material into the crucible of the plasma reactor, after said melting of the glass-forming host slag material, and after said forming said solid interfacial coating of the glass-forming host slag material on said cooled internal surface of the inner wall of the crucible;contacting within the crucible of the plasma reactor the hazardous waste to be treated and the glass-forming host slag material; andtreating the hazardous waste to be treated and the glass-forming host slag material in the crucible of the plasma reactor using a second plasma treatment to incorporate inorganic components of the waste to be treated within the glass-forming host slag material;wherein the plasma is generated using an arc and the arc is passed through the glass-forming host slag material; andwherein the inner wall of the crucible is maintained at said temperature below the solidus temperature of the glass-forming host slag material during plasma treatment. 2. The method as claimed in claim 1, wherein the glass-forming host slag material is heated to a temperature of 1300 to 1400° C. during the method such that, when molten at this temperature, it has a viscosity of 10 poise or less. 3. The method as claimed in claim 1, wherein the glass-form ing host slag material comprises a glass-former selected from P2O5 and SiO2. 4. The method as claimed in claim 1, wherein the glass-form ing host slag material comprises an intermediate oxide selected from Al2O3, V2O3, Bi2O3 and an oxide of the formula MO3, wherein M is a transition metal. 5. The method as claimed in claim 1, wherein the glass-form ing host slag material further comprises a network modifier selected from Na2O, K2O, MgO and CaO. 6. The method as claimed in claim 1, wherein the glass-form ing host slag material comprises SiO2, Al2O3 and one or both of MgO and CaO. 7. The method as claimed in claim 1, wherein the glass-form ing host slag material comprises a material comprising 30-60 wt % SiO2, 20-35 wt % CaO and 20-40 wt % Al2O3. 8. The method as claimed in claim 1, wherein an oxidant is present within the plasma reactor. 9. A method as claimed in claim 1, wherein steam is present in the plasma reactor. 10. The method as claimed in claim 1, wherein the internal wall of the crucible is maintained at a temperature below 100° C. 11. The method as claimed in claim 1, wherein the internal wall of the crucible comprises copper. 12. The method as claimed in claim 1, wherein the internal wall of the crucible is refractory lined. 13. The method as claimed in claim 1, wherein the plasma reactor comprises one or more electrodes, preferably two plasma electrodes. 14. The method as claimed in claim 1, wherein the hazardous waste to be treated and the glass-forming host slag material are mechanically agitated during the plasma treatment. 15. The method of claim 1 wherein: the glass-forming host slag material comprises a material comprising 30-60 wt % SiO2, 20-35 wt % CaO and 20-40 wt % Al2O3 and having a liquidus temperature between 1100° C. and 1400° C.; andthe treating the glass-forming host slag material in the crucible using the first plasma treatment to melt the glass-forming host slag material comprises heating the host slag material to a temperature at least 100° C. above the liquidus temperature thereof; andthe maintaining the cooled inner wall of the crucible below the solidus temperature of the glass-forming host slag material comprises maintaining the cooled inner wall at a temperature below 100° C. 16. The method of claim 1 wherein the hazardous waste is particularly waste containing harmful substances such as radioactive materials and/or hazardous waste components such as asbestos. 17. The method as claimed in claim 8, wherein the oxidant comprises oxygen. 18. The method as claimed in claim 8, wherein the oxidant is introduced directly into the hazardous waste to be treated and glass-forming host slag material. 19. The method as claimed in claim 13, wherein the plasma electrodes are initiated in a first mode in which an electric arc is passed between the electrodes above the level of the hazardous waste to be treated and the glass-forming host slag material and then operated in a second mode in which an electric arc is passed between the electrodes through the hazardous waste to be treated and glass-forming host slag material. 20. The method as claimed in claim 13, wherein the plasma electrodes comprise graphite.

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