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Method for removing liquid membrane using high-speed particle beam 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F26B-021/06
  • F26B-005/00
  • B08B-003/04
  • F26B-019/00
  • F26B-003/36
  • F26B-005/04
  • B24C-001/00
  • F26B-003/34
출원번호 US-0652045 (2013-10-25)
등록번호 US-9476642 (2016-10-25)
우선권정보 KR-10-2012-0148974 (2012-12-18)
국제출원번호 PCT/KR2013/009555 (2013-10-25)
국제공개번호 WO2014/098365 (2014-06-26)
발명자 / 주소
  • Kim, In Ho
  • Lee, Jin Won
출원인 / 주소
  • POSTECH ACADEMY-INDUSTRY FOUNDATION
대리인 / 주소
    LRK Patent Law Firm
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 10

초록

A method for removing a liquid membrane using a high-speed particle beam includes a wet washing step of washing an object by using a washing solution, and a dry washing step of simultaneously removing the washing solution remaining on the object and pollutants or foreign substances in the washing so

대표청구항

1. A method of removing a liquid membrane using a high-speed particle beam, the method comprising: a wet washing step of washing an object using a washing solution; anda dry washing step of simultaneously removing the washing solution remaining on the object and pollutants or foreign substances cont

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Hedberg, Herbert J.; Kangas, Brian, Apparatus and method for drying a solid or liquid sample.
  2. DeMarco, Francis W.; Renzi, Ernesto, Bulk freeze drying using spray freezing and stirred drying.
  3. Cha, Hyung Joon; Kim, Chang Sup; Seo, Jeong Hyun; Shin, Hwahui, Carbohydrate chip for detection of pathogen Vibrio cholerae and method of preparing the same.
  4. Kuppler, John P.; Atakan, Vahit; Smith, Kenneth; Hu, Xudong, Curing systems for materials that consume carbon dioxide and method of use thereof.
  5. Tanaka,Takeshi; Murakami,Takashi, Manufacturing method of optical film, and optical film.
  6. Wang, Zhaolin; Finlay, Warren H., Powder formation by atmospheric spray-freeze drying.
  7. Wang,Zhaolin; Finlay,Warren H., Powder formation by atmospheric spray-freeze drying.
  8. Folan Michael Anthony,IEX, Process for drying a material from solution.
  9. Hehmann, Franz; Weidemann, Michael, Selected processing for non-equilibrium light alloys and products.
  10. Ma,Zhenkun; Kim,In Ho; Li,Jing, Spiro-rifamycin derivatives targeting RNA polymerase.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. DeMarco, Francis W.; Renzi, Ernesto; Ganguly, Arnab, Bulk freeze drying using spray freezing and agitated drying.
  2. Kuppler, John P.; Atakan, Vahit; Smith, Kenneth; Hu, Xudong, Curing systems for materials that consume carbon dioxide and method of use thereof.
  3. Bland, Alan E.; Sellakumar, Kumar Muthusami; Newcomer, Jesse D., Efficient volatile metal removal from low rank coal in gasification, combustion, and processing systems and methods.
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