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Installation fixture having a micro-grooved non-stick surface 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/67
  • H01L-021/687
출원번호 US-0930659 (2013-06-28)
등록번호 US-9502279 (2016-11-22)
발명자 / 주소
  • Newton, Neal
출원인 / 주소
  • LAM RESEARCH CORPORATION
대리인 / 주소
    Buchanan Ingersoll & Rooney PC
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 16

초록

An apparatus and method adapted to mount an elastomer band in a mounting groove around a semiconductor substrate support used for supporting a semiconductor substrate in a plasma processing chamber, which includes an installation unit having a top ring, a clamp ring, and a base ring, and upon tighte

대표청구항

1. An annular installation fixture adapted to mount an elastomer band in a mounting groove around a semiconductor substrate support used for supporting a semiconductor substrate in a plasma processing chamber, comprising: an installation unit comprising: a top ring, the top ring having one or more i

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Pu Bryan ; Shan Hongching ; Ke Kuang-Han ; Welch Michael ; Sherstinsky Semyon ; Mak Alfred ; Chen Ling ; Zhang Sue ; Zuniga Leonel Arturo ; Wilson Samuel C., Apparatus for improving wafer and chuck edge protection.
  2. Tong,Jose; Lenz,Eric H, Apparatus for reducing polymer deposition on a substrate and substrate support.
  3. Ricci, Anthony J.; Comendant, Keith; Tappan, James, Apparatus for spatial and temporal control of temperature on a substrate.
  4. Salfelder Joseph (Williston VT) Grimard Dennis (Ann Arbor MI) Cameron John F. (Los Altos CA) Deshpandey Chandra (Fremont CA) Ryan Robert (Sunnyvale CA) Chafin Michael G. (Underhill VT), Barrier seal for electrostatic chuck.
  5. Howard, Bradley J.; Pape, Eric; Li, Siwen, Electrical and optical system and methods for monitoring erosion of electrostatic chuck edge bead materials.
  6. Mansfield, Corinne A.; Hughes, James W.; Gurevich, Eugene; Ux, Brian; Quartapella, Carmin, Fast curing fluoroelastomeric compositions, adhesive fluoroelastomeric compositions and methods for bonding fluoroelastomeric compositions.
  7. Zheng, Hui; Tsai, Kenneth; Wang, Hong; He, Yongxiang; Garcia, III, Jesus G.; Deyo, Daniel M., Guard for electrostatic chuck.
  8. Chhatre, Rish; Schaefer, David; Lee, Sung; Haber, Dan, Installation fixture for elastomer bands and methods of using the same.
  9. Benjamin,Neil; Steger,Robert, Method and apparatus for controlling the spatial temperature distribution across the surface of a workpiece support.
  10. Ricci,Anthony; Tappan,Jim; Comendant,Keith, Method of protecting a bond layer in a substrate support adapted for use in a plasma processing system.
  11. Zhu Helen H. ; Mueller George A. ; Nguyen Thomas D. ; Li Lumin, Methods for selective plasma etch.
  12. Kenney, Mark D., Perimeter seal for backside cooling of substrates.
  13. Kimball, Christopher; Hudson, Eric; Keil, Douglas; Marakhtanov, Alexei, Plasma processing chamber with an apparatus for measuring a set of electrical characteristics in a plasma.
  14. Shojima, Daihachi, Plasma resistant seal.
  15. Kobayashi, Yoshiyuki, Substrate processing apparatus, positioning method and focus ring installation method.
  16. Gerhard M. Schneider ; Hamid Noorbakhsh ; Bryan Pu ; Kaushik Vaidya ; Brad Leroy Mays ; Hung Dao ; Evans Lee ; Hongging Shan, Support assembly with thermal expansion compensation.
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