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Inactive gas introducing facility and inactive gas introducing method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/673
  • B65B-031/04
  • H01L-021/677
출원번호 US-0720036 (2012-12-19)
등록번호 US-9524893 (2016-12-20)
우선권정보 JP-2011-281857 (2011-12-22)
발명자 / 주소
  • Takahara, Masahiro
  • Ueda, Toshihito
출원인 / 주소
  • Daifuku Co., Ltd.
대리인 / 주소
    The Webb Law Firm
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 11

초록

An inactive gas introducing facility includes an introducing device disposed in a support portion supporting a container accommodating a substrate and configured for introducing inactive gas to the inside of the container through a gas feed opening of the container with discharging gas present insid

대표청구항

1. An inactive gas introducing facility comprising: an introducing device disposed in a support portion for supporting a container for accommodating a substrate and configured for introducing inactive gas to the inside of the container through a gas feed opening of the container while allowing gas p

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Takahara, Masahiro; Ueda, Toshihito, Article storage facility and article storage method.
  2. Yotsumoto Tadashi,JPX ; Muguruma Terumi,JPX ; Yoshikawa Noriaki,JPX ; Kuroda Yuichi,JPX, Clean storage equipment for substrates and method of storing substrates.
  3. Moslehi, Mehrdad M.; Davis, Cecil J., Edge sealing structure for substrate in low-pressure processing environment.
  4. Sheydayi,Alexei; Sutton,Thomas, Gate valve for plus-atmospheric pressure semiconductor process vessels.
  5. Fujikawa, Takao; Inoue, Yoichi; Narukawa, Yutaka; Ishii, Takahiko; Masuda, Tsuneharu; Kadoguchi, Makoto; Sakashita, Yoshihiko, High-temperature and high-pressure treatment device.
  6. Verhaverbeke, Steven; Truman, J Kelly; Lane, Christopher T; Somekh, Sasson R, Method and apparatus for processing a wafer.
  7. Lee, Soo-woong; Choi, Hyung-seok; Hwang, Jung-sung; Choi, Sung-hwan, Method of controlling pressure in a wafer transfer system.
  8. Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
  9. Goto, Fumiki; Adachi, Naruto, Purge apparatus.
  10. Shinozaki,Hiroyuki, Seal device and method for operating the same and substrate processing apparatus comprising a vacuum chamber.
  11. Shimada Masakazu,JPX, Semiconductor fabricating apparatus, method for controlling oxygen concentration within load-lock chamber and method fo.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Murata, Masanao; Yamaji, Takashi; Onishi, Shinji, Purge device, purge system, purge method, and control method in purge system.
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