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Robot for a substrate processing system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/677
  • B25J-011/00
  • B25J-009/04
출원번호 US-0876951 (2015-10-07)
등록번호 US-9576833 (2017-02-21)
발명자 / 주소
  • Blank, Richard
  • McLellan, Matt
출원인 / 주소
  • LAM RESEARCH CORPORATION
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 13

초록

A robot for a substrate processing system includes a first arm and a second arm each including a first arm portion connected to a base, a second arm portion connected to the first arm portion, and an end effector connected to the second arm portion. The first arm and the second arm are each configur

대표청구항

1. A robot for a substrate processing system, the robot comprising: a first arm including a first arm portion connected to a base, a second arm portion connected to the first arm portion, and an end effector connected to the second arm portion, wherein the first arm is configured to actuate between

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Arai, Izumi, Anti-slip end effector for transporting workpiece using van der waals force.
  2. Caveney, Robert T.; Solomon, Todd, Dual arm substrate transport apparatus.
  3. Blank, Richard M.; McLellan, Matthew J., Dual arm vacuum robot with common drive pulley.
  4. Pietrantonio, Antonio F.; Chesna, Anthony; Elmoli, Hakan; Gilchrist, Ulysses, Dual scara arm.
  5. Bacchi Paul ; Filipski Paul S., Multiple link robot arm system implemented with offset end effectors to provide extended reach and enhanced throughput.
  6. Hosek, Martin; Hofmeister, Christopher, Robot having arm with unequal link lengths.
  7. Kremerman, Izya; Hudgens, Jeffrey C., Robot systems, apparatus and methods for transporting substrates.
  8. Hudgens, Jeffrey C.; Kremerman, Izya, Robot systems, apparatus, and methods having independently rotatable waists.
  9. Lorenz Karl (Redwood City CA) Sutton John H. (San Carlos CA) Stone ; III William J. (Cupertino CA), Robotic handling system.
  10. Gilchrist, Ulysses; Caveney, Robert T.; Krishnasamy, Jayaraman; Drew, Mitchell; Moura, Jairo T., Substrate processing apparatus.
  11. Okayama, Satohiro; Kanazawa, Motoichi; Ishida, Takeshige; Takeda, Tomohiko; Akita, Yukio; Ichimura, Satoru; Suzuki, Kazunori; Yoshino, Teruo; Akao, Tokunobu; Nakayama, Yasunobu, Substrate processing device, substrate conveying device, and substrate processing method.
  12. Ishida Toshimichi (Hirakata JPX) Suzuki Masaki (Hirakata JPX), Substrate transfer apparatus.
  13. Weaver, William Tyler; Daniel, Jr., Malcolm N.; Vopat, Robert B.; Schaller, Jason M.; Newman, Jacob; Kanawade, Dinesh; Constant, Andrew J.; Hickerson, Stephen C.; Hudgens, Jeffrey C.; Freeman, Marvin L., Wafer handling systems and methods.
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