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Installation fixture for elastomer bands 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B23Q-001/70
  • H01L-021/70
  • H01L-021/67
  • H01L-021/687
출원번호 US-0109400 (2013-12-17)
등록번호 US-9583377 (2017-02-28)
발명자 / 주소
  • Chhatre, Rish
  • Schaefer, David
출원인 / 주소
  • LAM RESEARCH CORPORATION
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 22

초록

An installation fixture adapted to mount an elastomer band in a mounting groove around a semiconductor substrate support used for supporting a semiconductor substrate in a plasma processing chamber is disclosed, which includes an annular ring having a vertically extending portion on an outer edge of

대표청구항

1. An installation fixture adapted to mount an elastomer band in a mounting groove around a semiconductor substrate support used for supporting a semiconductor substrate in a plasma processing chamber, the installation fixture comprising: an annular ring having a vertically extending portion on an o

이 특허에 인용된 특허 (22)

  1. Nakamura Yoshio,JPX ; Moriya Norihiko,JPX ; Kajikura Atsushi,JPX, Abrasive machine.
  2. John M. White, Apparatus and method for chemical mechanical planarization.
  3. Pu Bryan ; Shan Hongching ; Ke Kuang-Han ; Welch Michael ; Sherstinsky Semyon ; Mak Alfred ; Chen Ling ; Zhang Sue ; Zuniga Leonel Arturo ; Wilson Samuel C., Apparatus for improving wafer and chuck edge protection.
  4. Ricci, Anthony J.; Comendant, Keith; Tappan, James, Apparatus for spatial and temporal control of temperature on a substrate.
  5. Yoshihiro Hayashi JP; Kazuo Kobayashi JP, Automatic polishing apparatus capable of polishing a substrate with a high planarization.
  6. Salfelder Joseph (Williston VT) Grimard Dennis (Ann Arbor MI) Cameron John F. (Los Altos CA) Deshpandey Chandra (Fremont CA) Ryan Robert (Sunnyvale CA) Chafin Michael G. (Underhill VT), Barrier seal for electrostatic chuck.
  7. Howard, Bradley J.; Pape, Eric; Li, Siwen, Electrical and optical system and methods for monitoring erosion of electrostatic chuck edge bead materials.
  8. Lilleland John ; Hubacek Jerome S. ; Kennedy William S., Electrode for plasma processes and method for manufacture and use thereof.
  9. Ken Beel CA; David Fisher CA; Adrian Russell CA; George Folprecht CA, Face gear manufacturing method and apparatus.
  10. Mansfield, Corinne A.; Hughes, James W.; Gurevich, Eugene; Ux, Brian; Quartapella, Carmin, Fast curing fluoroelastomeric compositions, adhesive fluoroelastomeric compositions and methods for bonding fluoroelastomeric compositions.
  11. Zheng, Hui; Tsai, Kenneth; Wang, Hong; He, Yongxiang; Garcia, III, Jesus G.; Deyo, Daniel M., Guard for electrostatic chuck.
  12. Chhatre, Rish; Schaefer, David; Lee, Sung; Haber, Dan, Installation fixture for elastomer bands and methods of using the same.
  13. Newton, Neal, Installation fixture for elastomer bands and methods of using the same.
  14. Benjamin,Neil; Steger,Robert, Method and apparatus for controlling the spatial temperature distribution across the surface of a workpiece support.
  15. Ricci,Anthony; Tappan,Jim; Comendant,Keith, Method of protecting a bond layer in a substrate support adapted for use in a plasma processing system.
  16. Zhu Helen H. ; Mueller George A. ; Nguyen Thomas D. ; Li Lumin, Methods for selective plasma etch.
  17. Kenney, Mark D., Perimeter seal for backside cooling of substrates.
  18. Toshihiko Ishikawa JP; Yasushi Katagiri JP, Planarization apparatus and method.
  19. Kimball, Christopher; Hudson, Eric; Keil, Douglas; Marakhtanov, Alexei, Plasma processing chamber with an apparatus for measuring a set of electrical characteristics in a plasma.
  20. Shojima, Daihachi, Plasma resistant seal.
  21. Gerhard M. Schneider ; Hamid Noorbakhsh ; Bryan Pu ; Kaushik Vaidya ; Brad Leroy Mays ; Hung Dao ; Evans Lee ; Hongging Shan, Support assembly with thermal expansion compensation.
  22. Jiro Kajiwara JP; Yoshie Kaido JP; Masahito Komasaki JP, Wafer loading/unloading device and method for producing wafers.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Peng, Jui-Chun; Chung, Jacky; Liu, Heng-Hsin; Lin, Chun-Hung, Method of heating/cooling a substrate.
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