[특허]Large area nanopatterning method and apparatus

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-001/26 G03F-001/92 G03F-007/20 G03F-007/22 G03B-027/42
출원번호	US-0416716 (2012-03-09)
등록번호	US-9645504 (2017-05-09)
발명자 / 주소	Kobrin, Boris
출원인 / 주소	METAMATERIAL TECHNOLOGIES USA, INC.
대리인 / 주소	Isenberg, Joshua D.
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 29

초록 ▼

Embodiments of the invention relate to methods and apparatus useful in the nanopatterning of large area substrates, where a rotatable mask is used to image a radiation-sensitive material. Typically the rotatable mask comprises a cylinder. The nanopatterning technique makes use of Near-Field photolithography, where the mask used to pattern the substrate is in contact or close proximity with the substrate. The Near-Field photolithography may make use of an elastomeric phase-shifting mask, or may employ surface plasmon technology, where a rotating cylinder surface comprises metal nano holes or nanoparticles.

대표청구항 ▼

1. An apparatus to carry out near-field lithography, comprising: a) a rotatable mask having a nanopattern on an exterior surface of said mask, wherein said nanopattern is formed from a conformable material; andb) a radiation source which supplies radiation of a wavelength of 436 nm or less from said nanopattern, while said nanopattern is in contact with a radiation-sensitive layer of material, wherein said rotatable mask is a cylinder, wherein said rotatable mask is transparent, and wherein said rotatable mask is a phase-shifting mask. 2. An apparatus in accordance with claim 1, wherein a rotatable mask is suspended over said substrate by a tensioning device which can be adjusted to control the amount of force applied to a surface in contact with said rotatable mask. 3. An apparatus to carry out near-field lithography, comprising: a) a rotatable mask having a nanopattern on an exterior surface of said mask, wherein said nanopattern is formed from a conformable material; andb) a radiation source which supplies radiation of a wavelength of 436 nm or less from said nanopattern, while said nanopattern is in contact with a radiation-sensitive layer of material, wherein said rotatable mask includes a rigid cylinder, wherein the conformable material is a transparent film on an outer surface of the rigid cylinder, and wherein said rotatable mask further includes a metal layer on the transparent film, wherein said rotatable mask is configured to employ radiation generated using surface plasmon techniques to produce photochemical or photophysical changes in a layer below the metal layer. 4. An apparatus in accordance with claim 3, wherein the metal layer includes nanoholes. 5. An apparatus in accordance with claim 4, wherein multiple rotatable masks are present in an arrangement so that said multiple rotatable masks pass over a substrate in sequence. 6. An apparatus in accordance with claim 4, wherein multiple rotatable masks are present, and wherein a rotatable mask is present on both the top side and bottom side of a substrate which is imaged by said apparatus. 7. An apparatus in accordance with claim 6, wherein at least one rotatable mask which transmits imaging radiation is present on both the top side and the bottom side of a substrate which is imaged by said apparatus. 8. An apparatus to carry out near-field lithography, comprising: a) a rotatable mask having a nanopattern on an exterior surface of said mask, wherein said nanopattern is formed from a conformable material, wherein either said deformable cylinder is transparent, and wherein said rotatable mask is a phase-shifting mask, or said rotatable mask employs radiation generated using surface plasmon techniques; andb) a radiation source which supplies radiation of a wavelength of 436 nm or less from said nanopattern, while said nanopattern is in contact with a radiation-sensitive layer of material, wherein said rotatable mask includes a deformable cylinder formed from a flexible material, wherein said deformable cylinder is pressurized with an optically transparent gas.

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