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Reticle pod 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65D-085/48
  • G03F-001/66
  • H01L-021/673
출원번호 US-0139653 (2013-12-23)
등록번호 US-9745119 (2017-08-29)
발명자 / 주소
  • Kolbow, Steven P.
  • McMullen, Kevin
  • Tieben, Anthony M.
  • Kusz, Matthew
  • Halbmaier, David L.
  • Lystad, John
출원인 / 주소
  • Entegris, Inc.
대리인 / 주소
    Entegris, Inc. Legal Dept.
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 37

초록

A dual containment pod having an outer pod and an inner pod that provides support structure and environmental control means. The inner pod includes a base having a flat, polished surface with protrusions upon which the reticle seats and providing a gap between the reticle and the polished surface. T

대표청구항

1. A container for holding reticles, the reticle having a periphery, a top surface, a bottom surface, a side surface, four peripheral corners, a top edge and a bottom edge, the container comprising: an outer container sized to receive an inner container, the outer container comprising an outer cover

이 특허에 인용된 특허 (37)

  1. Kirkpatrick, John, Apparatus and method for securely carrying a substrate.
  2. Shaw Charles G. (San Antonio TX) Vokoun ; III Edward R. (Boerne TX), Box for an optical stepper reticle.
  3. Nakahara Kanefumi,JPX ; Orikasa Tsuneaki,JPX, Case for housing a substrate.
  4. Wu, Tzong-Ming, Clean container having elastic positioning structure.
  5. Nakazato Hiroshi (Yokohama JPX) Nakamura Gen (Yokohama JPX) Yoshinari Satoshi (Yokohama JPX), Container for a plate-like article.
  6. Kosugi Masao (Yokohama JPX) Iizuka Kazuo (Yokohama JPX), Container for a sheet-like article.
  7. Abrams Robert S. (Albany NY) Supranowicz Ronald P. (Lenox MA), Container for a wafer chip.
  8. Abe Nobutoshi (Kawasaki JPX) Kakizaki Yukio (Yokohama JPX) Kobayashi Jiro (Yamato JPX), Container for holding substrate.
  9. Hirohata Tatsuaki,JPX ; Betsuyaku Takashi,JPX, Container for transporting precision substrates.
  10. Nakazato Hiroshi (Ohme JPX) Iijima Mamoru (Yokohama JPX), Dust-proof container having improved construction for holding a reticle therein.
  11. Phillips, Alton H.; Sogard, Michael R.; Watson, Douglas C., EUV reticle handling system and method.
  12. Phillips,Alton H.; Sogard,Michael R.; Watson,Douglas C., EUV reticle handling system and method.
  13. Cheng Dong-Hsu,TWX ; Liaw Yung Haw,TWX ; Juang Deng-Guey,TWX, Electrostatic discharge-free container equipped with metal shield.
  14. Li Meng Chun,TWX, Electrostatic discharge-free container for insulating articles.
  15. Halbmaier,David L.; Simpson,Anthony; Goodwin,William M.; Kishkovich,Oleg P.; Kielbaso,Thomas B.; Manganiello,Frank, Environmental control in a reticle SMIF pod.
  16. Blank, Richard M.; Burkhart, Christopher W., Flatted object passive aligner.
  17. Durben, Joseph A.; Rider, Gavin Charles; Lindsley, Robert K., High cleanliness article transport system.
  18. Chiu,Ming Chien, Holder of photomask.
  19. Grohrock Peter (Hoehenkirchen-Siegertsb DEX), Lockable container for transporting and for storing semiconductor wafers.
  20. Lenox, Richard J., Method and apparatus for kinematic registration of a reticle.
  21. Elliott,Martin R.; Rice,Michael Robert; Lowrance,Robert B.; Hudgens,Jeffrey C.; Englhardt,Eric Andrew; Stuart,Loy Randall, Methods and apparatus for using substrate carrier movement to actuate substrate carrier door opening/closing.
  22. Lewis Lynn Armentrout, Photolithography system including a SMIF pod and reticle library cassette designed for ESD protection.
  23. Johnson,Michael L.; Rauworth,Barry L., Photomask container.
  24. Hart Robert Allison (Gardner MA) Plourde Richard Harry (Gardner MA), Probe card shipping and handling system.
  25. Tieben, Anthony Mathius; Halbmeier, David L.; Kolbow, Steven P., Purge system for a substrate container.
  26. Wiseman,Brian; Strike,Justin, Reticle carrier including reticle positioning and location means.
  27. Nakazato Hiroshi (Ohme JPX) Iijima Mamoru (Yokohama JPX), Reticle cassette.
  28. Kolbow, Steven P.; McMullen, Kevin; Tieben, Anthony Mathius; Kusz, Matthew; Andersen, Christian; Wang, Huaping; Cisewski, Michael; Johnson, Michael L.; Halbmaier, David L.; Lystad, John, Reticle pod.
  29. Su, Wei-Yu; Tern, Li-Kong; Cheng, Dong-Hsu, Reticle pod and reticle with cut areas.
  30. Gregerson, Barry; Halbmaier, David; Sumner, Stephen; Wiseman, Brian; Tieben, Anthony Mathius; Strike, Justin, Reticle pod with isolation system.
  31. Okubo, Yukiharu; Kikuchi, Hidekazu, Reticle-holding pods and methods for holding thin, circular reticles, and reticle-handling systems utilizing same.
  32. Shelton Gary R. (Greentown IN) Street Kyle R. (Kokomo IN), Rotary clip for solder pallet.
  33. Fosnight William J. ; Martin Raymond S. ; Shenk Joshua W. ; Wartenbergh Robert P., SMIF container including a reticle support structure.
  34. Fujimori Yoshiaki,JPX ; Takahashi Masato,JPX ; Kamada Toshiyuki,JPX, Storage container for precision substrates.
  35. Yamauchi Takashi (Tokyo JPX), Substrate holding case.
  36. del Puerto, Santiago; Loopstra, Erik R.; Massar, Andrew; Kish, Duane P.; Alikhan, Abdullah; Olson, Woodrow J.; Feroce, Jonathan H., System for using a two part cover for protecting a reticle.
  37. Pylant, James D.; Bradley, Scott C., Wafer storage container with wafer positioning posts.
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