[특허]Stackable structural reactors

Stackable structural reactors 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B01J-008/00 B01J-008/02 B01J-019/00 B01J-019/24 B01J-019/30 B01J-019/32 C01B-003/38 C01B-003/00 C01B-003/02 C01B-003/32 C01B-003/34
출원번호	US-0887852 (2015-10-20)
등록번호	US-9751073 (2017-09-05)
발명자 / 주소	Whittenberger, William A. Brunson, Gordon W. Davis, Brian L. Romesberg, Todd A. Bartos, Randall J. Whittenberger, Joseph W.
출원인 / 주소	Johnson Matthey Public Limited Company
대리인 / 주소	Carroll, Kevin M.
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 18

초록 ▼

A reactor for carrying out catalytic reactions. The reactor includes a reactor component optionally arranged on a central rod in a reactor tube. The reactor component can have fluid ducts for directing fluid flow through the reactor. The fluid ducts are effective for increasing heat transfer in the

대표청구항 ▼

1. A reactor comprising: a fan arranged on a central rod in a reactor tube, the fan having an outer diameter face facing the reactor tube for directing fluid flow to contact the reactor tube and promote heat transfer along the reactor tube,the outer diameter face of the fan having a notch extending around the perimeter of the outer diameter face, the notch being a recessed portion of the outer diameter face of the fan. 2. The reactor of claim 1, wherein the notch extends uniformly around the perimeter of the outer diameter face of the fan. 3. The reactor of claim 1, wherein the notch creates a radial gap between the outer diameter face and the reactor tube. 4. The reactor of claim 1, wherein the notch has a radial depth that extends inward from the outer diameter face of the fan, the radial depth being in the range of 1 to 15 mm. 5. The reactor of claim 1, wherein the fan has a circular outer diameter face. 6. The reactor of claim 1, wherein the outer diameter face of the fan has two or more notches. 7. The reactor of claim 1, wherein the notch has a height and the height is defined by a nose portion of the fan. 8. The reactor of claim 7, wherein the height is in the range of 4 to 50 mm. 9. The reactor of claim 7, wherein the nose portion is in contact with the reactor tube. 10. The reactor of claim 1, wherein the fan has an upper nose portion and a lower nose portion, the upper nose portion and the lower nose portion extend radially around the outer diameter face of the fan. 11. The reactor of claim 10, wherein the upper nose portion and the lower nose portion define the opening of the notch extending around the perimeter of the outer diameter face of the fan. 12. The reactor of claim 10, wherein the fan has a middle nose portion and the outer diameter face of the fan has at least two notches. 13. The reactor of claim 1, wherein the fan has radial fluid ducts for directing fluid flow through the reactor, the fluid ducts being effective to radially guide the fluid flow to contact the reactor tube. 14. The reactor of claim 13, wherein the fan has a top surface, a bottom surface and the outer diameter face such that the radial fluid ducts terminate along the outer diameter face of the fan to form fluid duct openings facing the reactor tube. 15. The reactor of claim 13, wherein the fan is a corrugated disk having a center aperture for receiving the central rod.

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De Castella Pierre M. T. (La Vuachere Monnaz CHX 1111) Reinhold Charles L. (29 ; rue de Lancy Carouge CHX 1227), Purifier for gaseous fluids.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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