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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0756348 (2013-01-31) |
등록번호 | US-9782917 (2017-10-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 18 |
Aspects of the present disclosure describe cylindrical molds that may be used to produce cylindrical masks for use in lithography. A structured porous layer may be deposited on an interior surface of a cylinder. A radiation-sensitive material may be deposited over the porous layer in order to fill p
1. A method for forming a master mold for a cylindrical lithography mask, comprising: forming a structured porous layer over an interior surface of a cylinder, wherein the cylinder is transparent to optical radiation;filling one or more pores in the structured porous layer with a filling material;re
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