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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0442833 (2017-02-27) |
등록번호 | US-9786527 (2017-10-10) |
우선권정보 | JP-2012-181540 (2012-08-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 12 |
It is an object to reduce a chemical treating width in a peripheral edge part of a substrate while suppressing deterioration in each of uniformity of the chemical treating width and processing efficiency. In order to achieve the object, a substrate processing device for carrying out a chemical treat
1. A substrate processing method for carrying out a chemical treatment for a substrate by using a processing liquid having a reaction rate increased with a rise in temperature, the method comprising: a rotating step of holding a substrate in a substantially horizontal posture and rotating said subst
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