[특허]Heat reflector for substrate processing apparatus

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Heat reflector for substrate processing apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	15-09
출원번호	US-0548574 (2015-12-15)
등록번호	US-D803917 (2017-11-28)
우선권정보	JP-2015/013299 (2015-06-16)
발명자 / 주소	Harada, Koichiro Yasui, Takeshi
출원인 / 주소	HITACHI KOKUSAI ELECTRIC, INC.
대리인 / 주소	Fitch, Even, Tabin & Flannery, LLP
인용정보	피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 17

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

We claim the ornamental design for a heat reflector for substrate processing apparatus, as shown (and described).

이 특허에 인용된 특허 (17)

Renz, Charles John; Randolph, Ross Steven, Converter ring.
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Nagakubo,Keiichi; Satoh,Daiki, Cover ring.
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Goel, Ashish; Subramani, Anantha K., Deposition chamber cover ring.
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Tauchi, Susumu; Uemura, Takashi; Sato, Kohei, Electrode cover for a plasma processing apparatus.
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Mizukami, Shunsuke, Focusing ring.
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Okada,Mitsuhiro; Furusawa,Yoshikazu; Suzuki,Daisuke, Heat dissipation deterrence link for semiconductor manufacture.
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Lyon Garnet R. (Elmira NY), Index ring for a machine tool.
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Wainwright, Norman R.; Manian, Bala S.; Stimpson, Eric; Kolonia, Brian J.; Kolonia, Robert K., Lid.
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Stroupe Hugh (Boise ID) Sharan Sujit (Boise ID) Sandhu Gurtej S. (Boise ID), Polishing apparatus, a polishing wafer carrier apparatus, a replacable component for a particular polishing apparatus an.
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Rapparini, Gino, Reinforcement ring for beverage capsule.
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Willis,George D.; Easter,William G., Retaining ring for use on a carrier of a polishing apparatus.
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Miceli, David A.; Miceli, Joseph A., Scalloped pharmaceutical closure.
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Velez Cherle (9609 Arbor Meadow Dr. Boynton Beach FL 33437), Sink drain shield.
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Cogley,Paul Andrew; Romeo,Derek Joseph; Brooks,Joseph R., Susceptor ring.
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McCallum Duncan J. (Hinsdale IL) Williams John P. (Geneva IL) Jack Robert C. (Schaumburg IL), Transportation safety ring for cylindrical containers.
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Tateno, Hideto; Hara, Daisuke; Okuno, Masahisa; Joda, Takuya, Vaporizer for substrate processing apparatus.
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Nguyen, Phuong Van, Wafer polishing pad holder.
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이 특허를 인용한 특허 (3)

Ichino, Takamasa; Sato, Kohei; Nakamoto, Kazunori, Electrode cover for a plasma processing apparatus.
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Ichino, Takamasa; Sato, Kohei; Nakamoto, Kazunori, Electrode cover for a plasma processing apparatus.
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Furneaux, Todd McLean; Thuma, Michael; Vogler, Michael R., Tumbler rim.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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