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Chlorosilane production method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01B-033/107
  • B01J-031/08
출원번호 US-0132956 (2009-12-22)
등록번호 US-9840421 (2017-12-12)
우선권정보 JP-2008-330269 (2008-12-25)
국제출원번호 PCT/JP2009/071835 (2009-12-22)
§371/§102 date 20110606 (20110606)
국제공개번호 WO2010/074301 (2010-07-01)
발명자 / 주소
  • Iiyama, Shouji
  • Yamamoto, Tomohiro
  • Takata, Yukihiro
  • Koyanagi, Shinichirou
  • Sakata, Kanji
출원인 / 주소
  • TOKUYAMA CORPORATION
대리인 / 주소
    Birch, Stewart, Kolasch & Birch, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 8

초록

When a disproportionated chlorosilane is to be produced by causing a starting material chlorosilane liquid to flow through a catalyst-packed layer which is packed with a weakly basic anion exchange resin as a disproportionation reaction catalyst to carry out a disproportionation reaction, before the

대표청구항

1. A method of producing a trichloromonosilane, which comprises flowing a starting material chlorosilane liquid comprising dichloromonosilane and silicon tetrachloride through a catalyst-packed layer which is packed with a weakly basic anion exchange resin as a reaction catalyst to react dichloromon

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Yamada Mitsunori (Omi JPX) Ishii Masaji (Tokyo JPX) Miyai Akira (Machida JPX) Nakajima Yukihiko (Atsugi JPX) Sato Shinsei (Yamato JPX), Chlorosilane disproportionation catalyst and method for producing a silane compound by means of the catalyst.
  2. Litteral ; Carl J., Disproportionation of chlorosilane.
  3. Breneman William C. (East Amherst NY), High purity silane and silicon production.
  4. Oda Hiroyuki,JPX, Method of producing trichlorosilane having a reduced content of dichlorosilane.
  5. Inoue Kaoru (Yokohama JPX) Miyagawa Hiroharu (Yokohama JPX) Itoh Masayoshi (Yokohama JPX) Abe Tomohiro (Yokosuka JPX) Koizumi Kyogo (Yokohama JPX) Yanagawa Noriyuki (Hatano JPX), Process for disproportionating silanes.
  6. Morimoto Shiro (Tokushima JPX), Process for the disproportionation of chlorosilanes.
  7. Tachikawa Mamoru (Kamifukuoka JPX) Takatsuna Kazutoshi (Saitama JPX) Shiozawa Kouji (Saitama JPX) Okumura Yoshiharu (Tokyo JPX) Koyama Takeo (Chigasaki JPX), Process for the production of silanes.
  8. Arvidson Arvid N. (Midland MI) Pasek David J. (Midland MI), Recovery of lower-boiling silanes in a CVD process.
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