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Heat treatment method for heating substrate by irradiating substrate with flash of light

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F26B-003/30
  • H01L-021/67
  • H01L-021/324
  • H01L-021/66
출원번호 US-0413786 (2017-01-24)
등록번호 US-9875919 (2018-01-23)
우선권정보 JP-2013-010836 (2013-01-24)
발명자 / 주소
  • Kiyama, Hiroki
출원인 / 주소
  • SCREEN Holdings, Co. Ltd.
대리인 / 주소
    Ostrolenk Faber LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 13

초록

A flash heating part in a heat treatment apparatus includes 30 built-in flash lamps, and irradiates a semiconductor wafer held by a holder in a chamber with a flash of light. Thirty switching elements are provided in a one-to-one correspondence with the 30 flash lamps. Each of the switching elements

대표청구항

1. A method of heating a substrate by irradiating the substrate with a flash of light, the method comprising the step of adjusting the ON time interval of a pulse signal to be outputted to each of a plurality of switching elements provided in a one-to-one correspondence with a plurality of flash lam

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Wolze David A. (San Jose CA), Arc lamp power supply.
  2. Westerberg Eugene R. (Palo Alto CA), Cooking method and apparatus controlling cooking cycle.
  3. Walk, Heinrich; Mader, Roland; Blersch, Werner; Hauf, Markus, Device and method for thermally treating substrates.
  4. Eguchi, Hiromasa, Flash emitting device and radiant heating apparatus.
  5. Williams, Jeffrey B.; Pyles, Kenneth R.; Torer, Steven J.; Donath, Edward R., Fluid management system heater assembly and cartridge.
  6. Ballance David S. ; Bierman Benjamin ; Tietz James V., Gas introduction showerhead for an RTP chamber with upper and lower transparent plates and gas flow therebetween.
  7. Kusuda, Tatsufumi, Heat treatment apparatus and method for heating substrate by irradiation thereof with light.
  8. Kusuda, Tatsufumi; Aotani, Toshiaki; Miyawaki, Shinji, Heat treatment apparatus for heating substrate by irradiating substrate with flashes of light.
  9. Kusuda, Tatsufumi, Heat treatment apparatus heating substrate by irradiation with light.
  10. Kusuda, Tatsufumi, Heat treatment apparatus heating substrate by irradiation with light.
  11. Kanazaki,Emi; Shibata,Satoshi; Kawase,Fumitoshi, Light irradiation heat treatment method and light irradiation heat treatment apparatus.
  12. Ballance David S. ; Bierman Benjamin ; Tietz James V., Multi-zone gas flow control in a process chamber.
  13. He, Qiyang; Zhang, Yiying, Reaction apparatus for processing wafer, electrostatic chuck and wafer temperature control method.
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