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Recursive pumping for symmetrical gas exhaust to control critical dimension uniformity in plasma reactors 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/44
  • C23C-016/455
  • F15D-001/02
  • H01J-037/32
출원번호 US-0452228 (2014-08-05)
등록번호 US-9909213 (2018-03-06)
발명자 / 주소
  • Shoji, Sergio Fukuda
  • Noorbakhsh, Hamid
  • Kim, Jong Mun
  • Rosa, Jason Della
  • Balakrishna, Ajit
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Patterson + Sheridan, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 13

초록

Embodiments of the present invention provide apparatus and methods for reducing non-uniformity and/or skews during substrate processing. One embodiment of the present invention provides a flow equalizer assembly for disposing between a vacuum port and a processing volume in a processing chamber. The

대표청구항

1. A flow equalizer assembly for disposing between a vacuum port and a processing volume in a processing chamber, comprising: a first plate having a central opening and at least one first opening surrounding the central opening; anda second plate having a central opening and two or more second openi

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Shan Hongching (San Jose CA) Lee Evans (Milpitas CA) Wu Robert (Pleasanton CA), Adjustable dc bias control in a plasma reactor.
  2. Tien Yu-Chung,TWX, Adjustment pumping plate design for the chamber of semiconductor equipment.
  3. Choi Won-sung,KRX ; Oh Kyu-un,KRX, Apparatus for depositing thin films on semiconductor wafers.
  4. Hill James A., Disturbance simulating flow plate.
  5. Cho Tom (San Francisco CA) Ngai Christopher (Burlingame CA), Exhaust baffle for uniform gas flow pattern.
  6. Gallagher James E. (Kingwood TX) Beaty Ronald E. (Katy TX) Lanasa Paul J. (Houston TX), Flow conditioner for more accurate measurement of fluid flow.
  7. Bergervoet Josephus Theodorus Maria,NLX ; Oostendorp Franciscus Johannes Gerardus Maria,NLX, Flow guide for a turbine wheel gas meter.
  8. Bergervoet Josephus T. M. (Terborg NLX) Oostendoys Franciscus J. G. M. (Ulft NLX), Flow straightener for a turbine-wheel gasmeter.
  9. Meyer David J.,AUX, Fluid flow conditioner.
  10. Schneider Gerhard ; Nguyen Andrew, Method and apparatus for semiconductor processing chamber pressure control.
  11. Matt, Bernhard; Woringer, Theo; Zouzoulas, Gerassime, Perforated plate for evening out the velocity distribution.
  12. Sato Kiyoshi,JPX, Semiconductor processing system.
  13. Itoh Hitoshi (Tokyo JPX), Thin-film depositing apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Du, Zhiyou; Xing, Peijin; Fan, Wenyuan; Jiang, Yinxin, Chemical vapor deposition apparatus and its cleaning method.
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