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특허 상세정보

Method for manufacturing high purity sulfuric acid

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C01B-017/88    C01B-017/90    B01D-003/00    B01D-003/14    B01D-003/34   
출원번호 US-0266819 (2014-04-30)
등록번호 US-9926198 (2018-03-27)
우선권정보 TW-102115629 A (2013-05-01); TW-102138283 A (2013-10-23)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    CKC & Partners Co., Ltd.
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 4
초록

A method for manufacturing high purity sulfuric acid is provided. A mixed solution subsequently undergoes a first preheating step, a second preheating step, a distilling step and an evaporating step to remove peroxide, water, oxygen and insoluble impurities, so as to obtain the first gas containing sulfur trioxide, sulfuric acid and hydrogen oxide. And then, the sulfur trioxide is absorbed by a sulfuric acid solution, thereby forming the high purity sulfuric acid.

대표
청구항

1. A method for manufacturing a high purity sulfuric acid, comprising: providing a mixed solution, wherein the mixed solution comprises sulfuric acid, a first solution, hydrogen peroxide, water, oxygen gas, and an insoluble impurity, and a boiling point of the first solution is higher than a boiling point of the sulfuric acid;performing sequentially a first preheating step, a second preheating step and a distillation step to the mixed solution to form a second solution, all of the first preheating step, the second preheating step and the distillation ste...