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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0281250 (2016-09-30) |
등록번호 | US-9946159 (2018-04-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 12 |
A fragmentation pattern is formed on a surface of a warhead using a lithographic process. A photoresistant material is coated on an interior surface of the warhead casing. A portion of the photoresistant material is selectively cured by projecting an image of the fragmentation pattern onto the photo
1. A method for etching a fragmentation pattern into a warhead comprising the steps of: applying a photosensitive material coating to an interior surface of a warhead casing;according to a desired fragmentation pattern, selectively curing a portion of the photosensitive material with light radiation
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