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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0809056 (2015-07-24) |
등록번호 | US-9958673 (2018-05-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 22 |
A cover plate or lens for an optical metrology device that is positioned under a wafer during measurement is protected with a purge device. The purge device may include a ring that extends around a periphery of the cover plate or lens. The ring includes a plurality of apertures through which a purge
1. An apparatus comprising: a cover plate or lens positioned over optics of an optical metrology device, wherein the optical metrology device and the cover plate or lens are configured to be below a wafer during measurement of the wafer;a purge device comprising a ring element extending around a per
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