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Method for implanting a piezoelectric material 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-041/22
  • H01L-041/313
  • H03H-009/13
  • H03H-003/02
출원번호 US-0808703 (2011-07-05)
등록번호 US-9991439 (2018-06-05)
우선권정보 FR-10 55478 (2010-07-06)
국제출원번호 PCT/EP2011/061290 (2011-07-05)
§371/§102 date 20130107 (20130107)
국제공개번호 WO2012/004250 (2012-01-12)
발명자 / 주소
  • Deguet, Chrystel
  • Blanc, Nicolas
  • Imbert, Bruno
  • Moulet, Jean-Sebastien
출원인 / 주소
  • Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives
대리인 / 주소
    Oblon, McClelland, Maier & Neustadt, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 3

초록

A method of producing a structure made of a piezoelectric material, including: a) production of a stack including at least one metal layer and at least one conductive layer on a substrate made of piezoelectric material, wherein at least one electrical contact is established between the conductive la

대표청구항

1. A method for producing a structure made of a piezoelectric material, the method comprising: producing a stack including at least one buried metal layer and at least one electrically conductive surface layer on a substrate made of piezoelectric material, wherein at least one electrical contact is

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Lur Water (Taipei TWX) Chen Ben (Hsin-Chu TWX) Huang Cheng H. (Hsin Chu TWX), Charge damage free implantation by introduction of a thin conductive layer.
  2. Kub, Francis J.; Hobart, Karl D., Method for making piezoelectric resonator and surface acoustic wave device using hydrogen implant layer splitting.
  3. Bruel Michel (Veurey FRX), Process for the production of thin semiconductor material films.
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