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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0629506 (2017-06-21) |
등록번호 | US-10026651 (2018-07-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 12 |
A method of making a substrate involves patterning the substrate into active areas and dicing lanes. After the substrate is patterned one or more stress layers are formed the substrate. A change in stress along a thickness of the substrate in the active areas is larger than a change in stress along
1. A method comprising: patterning a substrate into active areas and dicing lanes;after patterning the substrate, forming one or more stress layers in the substrate, wherein a change in stress along a thickness of the substrate in the active areas is larger than a change in stress along the thicknes
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