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Charged particle beam device, and method of manufacturing component for charged particle beam device 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-037/16
  • H01J-009/18
  • H01J-037/065
  • H01J-037/147
  • C23D-005/02
  • H01J-037/12
  • H01J-037/317
출원번호 US-0544958 (2016-01-21)
등록번호 US-10170273 (2019-01-01)
우선권정보 WO-PCT/JP2015/051750 (2015-01-23)
국제출원번호 PCT/JP2016/051631 (2016-01-21)
국제공개번호 WO2016/117628 (2016-07-28)
발명자 / 주소
  • Ichimura, Takashi
  • Ito, Hiroyuki
  • Kato, Shinichi
  • Murakoshi, Hisaya
  • Fujieda, Tadashi
  • Miyake, Tatsuya
  • Naitou, Takashi
  • Aoyagi, Takuya
  • Tanimoto, Kenji
출원인 / 주소
  • Hitachi High-Technologies Corporation
대리인 / 주소
    Crowell & Moring LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 5

초록

The purpose of the present invention is to provide a charged particle beam device that exhibits high performance due to the use of vanadium glass coatings, and to provide a method of manufacturing a component for a charged particle beam device. Specifically provided is a charged particle beam device

대표청구항

1. A charged particle beam device comprising: an optical device that adjusts a charged particle beam emitted from a charged particle source; anda vacuum container for forming a vacuum atmosphere in a path where the charged particle beam passes;a first anode for extracting charged particles from the

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Tsong-Chi Lin (146 ; Min Chyuan Rd. ; TaFu Village FuNe Shiang ; Kaohsiung Hsien TWX), Base for setting a hinge.
  2. Christensen Alton O. (Milpitas CA), Batch fabrication procedure for manufacture of arrays of field emitted electron beams with integral self-aligned optical.
  3. Watanabe, Shunichi; Onishi, Takashi; Kaneda, Minoru; Murakoshi, Hisaya, Charged particle beam radiation apparatus.
  4. Okumura,Katsuya; Miyoshi,Motosuke, Electronic optical lens barrel and production method therefor.
  5. Miyoshi Motosuke (Tokyo JPX) Okumura Katsuya (Poughkeepsie NY) Yamazaki Yuichiro (Tokyo JPX), Magnetic field immersion type electron gun.
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