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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0202972 (2014-03-10) |
등록번호 | US-10179952 (2019-01-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 7 |
The described invention provides a method of patterning a thin film deposited on a substrate comprising applying a moving focused field of thermal energy to the thin film deposited on the substrate; and dewetting the thin film from the substrate. Dewetting the thin film from the substrate is charact
1. A method of patterning a thin film deposited on a substrate, the thin film including a thin film material, the method comprising the steps of: providing a substrate having the thin film deposited thereon,selecting a desired pattern of the thin film deposited on the substrate,scanning the thin fil
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