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Bellows-free retractable vacuum deposition sources 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/24
  • C23C-014/56
  • H01L-051/00
출원번호 US-0314995 (2014-06-25)
등록번호 US-10214806 (2019-02-26)
발명자 / 주소
  • Readinger, Eric Daniel
  • LaBere, Rikki Scott
  • Bresnahan, Richard Charles
  • Priddy, Scott Wayne
출원인 / 주소
  • VEECO INSTRUMENTS INC.
대리인 / 주소
    Kagan Binder, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 5

초록

Systems are provided that include one or more retractable deposition source assemblies that eliminate the need for a bellows, but do not require breaking the ultra-high vacuum of a growth module for source replacement or recharging with deposition material. Systems of the present invention may inclu

대표청구항

1. A retractable source assembly for moving a source base plate from a first position to a second position, the retractable source assembly comprising: an enclosure having an inside surface;a rail attached to the inside surface of the enclosure;a first carriage positioned on the rail and movable alo

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Satoh Ryozo (Yamato JPX), Apparatus for thermal treatment of semiconductors.
  2. Haas Trice W. (Beavercreek OH) Eyink Kurt G. (Beavercreek OH), Molecular beam epitaxy effusion cell.
  3. Okase Wataru (Sagamihara JPX), Thermal treatment apparatus utilizing heated lid.
  4. Allovon Michel (6 rue A.J. Caron 94110 Arcueil FRX) Goldstein Leon (32 rue de La Monesse 92310 Sevres FRX), Vacuum evaporation device.
  5. Dimock Jack A. (Santa Barbara CA) Woestenburg Dirk P. (Summerland CA), Wafer processing machine with evacuated wafer transporting and storage system.
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