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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0023611 (2014-09-05) |
등록번호 | US-10245616 (2019-04-02) |
우선권정보 | DE-10 2013 015 580 (2013-09-20) |
국제출원번호 | PCT/EP2014/002406 (2014-09-05) |
국제공개번호 | WO2015/039732 (2015-03-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 11 |
A system for the radiation treatment of substrates, which includes at least one radiation source above the substrate holders in a chamber, which holders are to be equipped with substrates that are to be treated, and the chamber has means for maintaining a gas flow in the chamber, having at least one
1. A system for the radiation treatment of substrates, comprising: at least one radiation source positioned above substrate holders in a chamber, which holders are to be equipped with substrates that are to be treated, and the chamber maintains a gas flow that is built up in the chamber and flows pa
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