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Gas flow device for a system for the radiation treatment of substrates 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05D-003/06
  • B29C-071/04
  • B29B-013/06
  • B29C-035/08
  • B29C-037/00
  • F26B-003/30
  • B05C-021/00
  • B29C-035/04
출원번호 US-0023611 (2014-09-05)
등록번호 US-10245616 (2019-04-02)
우선권정보 DE-10 2013 015 580 (2013-09-20)
국제출원번호 PCT/EP2014/002406 (2014-09-05)
국제공개번호 WO2015/039732 (2015-03-26)
발명자 / 주소
  • Ribeiro, Carlos
출원인 / 주소
  • Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 11

초록

A system for the radiation treatment of substrates, which includes at least one radiation source above the substrate holders in a chamber, which holders are to be equipped with substrates that are to be treated, and the chamber has means for maintaining a gas flow in the chamber, having at least one

대표청구항

1. A system for the radiation treatment of substrates, comprising: at least one radiation source positioned above substrate holders in a chamber, which holders are to be equipped with substrates that are to be treated, and the chamber maintains a gas flow that is built up in the chamber and flows pa

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Metzger Wesley A. (3107 Knoll Dr. Falls Church VA 22402), Apparatus and process for drying and curing coated substrates.
  2. Fuse Yoshiro (Chofu JPX) Naganuma Takao (Chofu JPX) Fujimori Akiyoshi (Chofu JPX) Arai Kozo (Chuo JPX) Igarashi Katsutoshi (Chuo JPX) Naito Yuzi (Chuo JPX), Curing apparatus.
  3. Lumpp Christian (16 rue de Presles 88560 Saint Maurice sur Moselle FRX), Device for the production and reflection of infrared or ultraviolet radiation.
  4. Adachi Hidehiko,JPX ; Yonejima Kunihiko,JPX, Light irradiator.
  5. Ishii Takao (Himeji JA), Light source device.
  6. Charles Joseph Aloisio, Jr. ; Terry M. Sanderson ; John Michael Turnipseed, Method and apparatus for detecting conditions in a UV curing lamp system.
  7. McNally Douglas J.,CAX, Method and apparatus for heating thin plastic sheet with air diffuser plate preventing sagging of the sheet.
  8. Orimoto Hiroyuki (Ueda JPX) Yokota Katsumasa (Chiisagata-gun JPX) Amari Fumiya (Komoro JPX) Suzuki Saburo (Ueda JPX), Method for forming heat-resistant containers.
  9. Anderson Kim A. (Green Bay WI), Reflector assembly for heating a substrate.
  10. Scheffer Herbert D. (R.D. 2 ; Box 180A Glen Gardner NJ 08826), Ultraviolet curing lamp device.
  11. Silverman Stanley (Denville NJ), Ultraviolet curing oven with rotable lamp assembly.
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