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NTIS 바로가기등록일자 | 2006-11-08 |
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출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=8aa6893abeb24c03ae552e26f008df9a&fileSn=1&bbsId= |
○ 각인 석판술(imprint lithography)이 기존의 100nm 이하의 분해능을 갖는 2D와 3D 구조의 제작을 주도하고 있으며, 광경화성 수지(photoresist)보다 다른 기능성 재료의 패턴 만들기와 변경 등을 하도록 해주는 광식각법(光蝕刻法, photolithography)에 대한 나노 패턴기술(nanopatterning technology)의 대체기술로 등장하고 있으며, 바이오장치를 개발하는 데 저렴하고도 사용을 쉽게 해주고 있다.
○ 각인 석판술에 대한 기술은 ‘주조 및 엠보싱(embossin
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