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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국전기연구원 Korea Electrotechnology Research Institute |
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연구책임자 | 김용주 |
참여연구자 | 박정후 , 신판석 , 강동식 , 이우영 , 김진봉 , 김윤택 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1993-08 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국전기연구원 Korea Electrotechnology Research Institute |
등록번호 | TRKO200200005175 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 이온빔.마이크로 웨이브.플라즈마 진단.Ion Beam.Langmuir Probe.Ion Energy Analyzer.Microwave. |
최근 ECR이온원 반도체 및 신소재 산업의 공정장비로 각광받고 있으나 국내외 실정은 도입장비를 이용하여 시험가동을 하거나 선진국의 방식을 제어 하거나 확인하는 수준에 머물러 있다. 본 연구는 ECR이온원 개발과 체계적인 ECR이온원의 특성진단 기법의 개발을 목적으로 한다. 진단기법으로는 Langmuir Probe 와 Energy Analyzer을 사용하여 시간에 따라 변하는 ECR플라즈마에 대해 약 3 KHz로 측정할수 있는 측정회로를 구성하였고 특정 데이타의 일괄처리 프로그램을 완성하였다. ECR플라즈마의 최대 밀도 지점은 ECR
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