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NTIS 바로가기주관연구기관 | 국민대학교 KookMin University |
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연구책임자 | 조영석 |
참여연구자 | 윤성로 , 김성훈 , 이경순 , 이우동 , 백순철 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1991-02 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 국민대학교 KookMin University |
등록번호 | TRKO200200014551 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 |
RF 플라즈마.Ar. |
본 연구는 반도체 제조공정에서 많이 응용되고 있는 RF 플라즈마의 물성과 그 방전 메카니즘을 연구하기 위하여 RIE (Reactive Ion Etching)에서 많이 쓰이는 평행한 두국판 형태의 챔버를 제작하고 순수한 Ar 과 CF?, 그리고 일정비율로 섞은 그 혼합개스에 대하여 여러가지 조건에서 RF 플라즈마를 발생시킨후 전기적인 회로의 분석과 OES (Optical Emission Spectroscopy) 방법을 이용 그 방전 특성과 발생된 플라즈마의 물성을 진단하였다. 실험결과 RF 글로우 방전은 모든 개스에 대해 50-10
This study was focused on the diagnostics of physical properties and breakdown mechanism of RF power generated Ar, CF?, and their mixed gases plasmas. For this purpose, plarnar diode type reactor which had been widely applied in the field of semiconductor process called RIE (Reactive Ion Etching), w
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