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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
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연구책임자 | 김희중 |
참여연구자 | 강일구 , 김순광 , 이택동 , 금동화 , 서상희 , 노태환 , 김영호 , 나종갑 , 한승희 , 이세광 , 임상호 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1991-08 |
주관부처 | 국무조정실 |
과제관리전문기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
등록번호 | TRKO200200048994 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
본 연구에서는 다음과 같이 4분야의 연구를 대상으로 관련된 박막제조장치들을 사용하여 실험을 하고 그 결과들을 검토하였다.1. RF 스퍼터링조건이 순철의 박막특성에 미치는 영향2. TbFeCo합금 박막에서 조성 및 방출각도 분포에 미치는 타게트재료의 영향3. 대향타게트 스퍼터링으로 제조된 FeSi박막의 증착속도 및 두께 균일성에 미치는 스퍼터링조건의 영향4. 저압화학증착에서 10 torr 이상의 압력 증가가 W-증착현상에 미치는 영향
In this work the following 4 contents are experimentally examined and analysed.1. Influence of the RF sputtering condition on the thin film characteristics of pure iron.2. Influence of the target materials on the distributions of composition and ejection angle for TbFeCo alloy thin film.3. Influence
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