초록

본 연구는 21세기의 반도체, 정보통신, 신소재, 생명공학, 의료, 우주항공 산업에서필요한 첨단 측정기술을 연구 개발하여 산업경쟁력을 높이는 것을 목적으로 한다. 따라서 날로 극단화, 극 미세화 되어 어려워지고 있는 측정환경과 조건을 극복할 수 있는 신뢰성을 갖춘 측정기술과 기기의 개발과 원자제어와 나노측정기술의 연구, MEMS 기반기술 연구, 첨단 공정측정 기술의 개발을 수행하였다.

Abstract ▼

This research is to develop advanced measurement technology necessary for the enhancement of competitiveness of the products in semiconductor, information and communication, new materials, bio-technology, medicine, and aerospace industries of the 21st century. Study on reliable and ultra high precis

This research is to develop advanced measurement technology necessary for the enhancement of competitiveness of the products in semiconductor, information and communication, new materials, bio-technology, medicine, and aerospace industries of the 21st century. Study on reliable and ultra high precision measurement technology or instruments is necessary, therefore, in order to overcome difficult and severe measurement environments and conditions. Investigations on atom technology and nano-metrology, fundamental MEMS technology, and advanced process measurement technology are also included.

목차 Contents

• 제 1 장 개 괄...26
• 제 1 절 서 론...26
• 제 2 절 연구개발의 필요성...26
• 제 3 절 연구개발의 최종목표 및 내용...28
• 제 4 절 기대 성과...28
• 제 2 장 SPM용 Nanot ube t ip 개발 및 이를 이용한 고분해 측정기술 개발...30
• 제 1 절 서 론...30
• 제 2 절 국내외 기술개발현황...32
• 제 3 절 연구개발수행내용 및 결과...34
• 1. Nanomanipulator의 제작...34
• 2. Nanotube의 정제...37
• 3. Micromanipulator를 이용한 CNT tip의 제작과 측정...43
• 4. AFM 측정...49
• 제 4 절 연구개발목표 달성도 및 대외기여도...51
• 제 5 절 연구개발결과의 활용계획...51
• 참고 문헌...51
• 제 3 장 나노구조체 물성 평가 연구...53
• 제 1 절 서 론...53
• 제 2 절 나노구조체의 전기적 특성 연구...53
• 1. 나노전극 제작 및 Electrostatic trapping 방법...53
• 2. 탄소나노튜브의 전기적 특성...56
• 3. DNA의 전기적 특성...60
• 4. Bacteriorhodopsin의 전기적 특성...64
• 5. 화학적 자기조립을 이용한 시료제작...66
• 제 3 절 나노구조체의 광학적 특성연구...66
• 1. 공촛점 단일 양자계 광발광 측정법 개발...67
• 2. Gold Nanoparticles의 광물성 측정연구...71
• 3. 연구개발결과의 활용 계획...74
• 참고 문헌...74
• 제 4 장 원소분해능 주사형 현미경 기술 개발...76
• 제 1 절 서 론...76
• 1. 원소분해능 주사형 현미경 기술의 개요...76
• 제 2 절 STM을 이용한 Scanning tunneling spectroscopy기술...80
• 1. Si(111)- 7 7 표면위에서 STM을 이용한 I-V spectroscopy...80
• 2. Ni 오염된 Si(111)표면에서의 19 19원자 재배열 구조 및 전자구조...82
• 제 3 절 STM image의 양자역학적 계산...86
• 1. 제일 원리를 이용한 전자구조 및 STM image 계산...86
• 2. 원자선택 STM image-GaAs(110)...87
• 3. GaAs(110) 표면에서 As vacancy...88
• 4. 요 약...92
• 제 5 장 MEIS와 SE를 이용한 초박막 계면의 정밀 분석법 개발...93
• 제 1 절 서 론...93
• 제 2 절 MEIS를 이용한 SiO2 박막의 두께 및 계면 분석 기술 개발...94
• 제 3 절 SE를 이용한 SiO2 박막 두께 측정...101
• 제 4 절 종합 토의 및 결론...120
• 참고 문헌...121
• 제 6 장 극미세 원자구조 파라미터 측정기술 개발...123
• 제 1 절 서 론...123
• 제 2 절 국내외 기술개발현황...124
• 제 3 절 연구개발 수행내용 및 결과...125
• 1. EXAFS 장치제작...125
• 2. 재료의 구조평가...132
• 가. Cu2O, TiO2, GeO2의 구조해석...132
• 나. 철강내의 Cr23C6의 구조해석...136
• 3. 결 론...138
• 제 4 절 연구개발목표 달성도 및 대외기여도...138
• 제 5 절 연구개발결과의 활용계획...139
• 참고 문헌...139
• 제 7 장 MEMS 기반기술 개발...140
• 제 1 절 서 론...140
• 제 2 절 박막형 열전변환기의 최적모델 개발...140
• 제 3 절 16-채널 MEMS 가속도계 특성평가 기술 개발...161
• 제 4 절 MEMS의 역학적 특성 측정...168
• 제 5 절 Nanoindentation 방법을 이용한 마이크로구조물의 기계적특성 평가...172
• 제 6 절 미소재료의 역학적 물성 계측 기술 확립...181
• 참고 문헌...190
• 제 8 장 인터넷을 이용한 원격 공정측정 기반기술 개발...193
• 제 1 절 서 론...193
• 제 2 절 국내외 기술 개발 현황...195
• 제 3 절 연구개발 수행 내용 및 결과...196
• 제 4 절 연구개발목표 달성도 및 대외기여도...238
• 제 5 절 연구개발결과의 활용계획...238
• 참고 문헌...239
• 제 9 장 대구경 광학계 평가기술 개발...240
• 제 1 절 서 론...240
• 제 2 절 400 광학계용 OTF 측정장치 제작...240
• 1. Optical Transfer Function...240
• 2. 카메라 벤치형 대구경 OTF 측정장치 설계...245
• 3. 물체부 제작...246
• 4. 시준장치 제작...248
• 5. 상분석장치 제작...250
• 6. 측정 프로그램 개발...253
• 제 3 절 측정장치 성능평가...258
• 1. 양방향 층밀리기 간섭계를 이용한 시준검사...258
• 2. 피조형 Zygo 간섭계를 이용한 시준검사...263
• 3. SIRA 표준렌즈를 이용한 OTF 측정장치 성능평가...266
• 4. Newtonian 망원경의 MTF 측정...267
• 제 4 절 결 론...270
• 참고 문헌...270