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NTIS 바로가기주관연구기관 | 고등기술연구원(사) Institute for Advanced Engineering |
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연구책임자 | 이근호 |
참여연구자 | 이기훈 , 김윤기 , 홍정미 , 이해룡 , 김덕재 , 정진오 , 김형진 , 심연근 , 백종문 , 김상영 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2002-01 |
과제시작연도 | 2002 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO200300000024 |
과제고유번호 | 1350000464 |
사업명 | 국가지정연구실사업 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
가. 연구개발의 최종목표
저온(상온∼150℃)/상압(∼760 Torr) 표면처리 공정이 가능한 플라즈마 시스템 및 실용화 공정기술 개발
나. 단계별/연차별 연구개발 목표 및 내용
o 단계별 연구목표
. 연구개발 목표
-1단계(2년후) : 저온(∼250℃) 및 상압(∼760 Torr) 플라즈마 표면처리 Prototype 시스템 구축 및 공정 응용시험
-2단계(5년후) : 저온(상온∼150℃)/상압(∼760 Torr) 플라즈마 표면처리 시스템 및 실용화 공정기술 개발
A. Final Object of the Research
Development of Low temperature(room temperature∼150℃)/atmospheric pressure(∼760 Torr) plasma system and processing technologies capable of surface treatment processing
B. Objects and Contents of the Research by Phase and Year
o Object of the Research
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