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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국원자력연구소 Korea Atomic Energy Research Institute |
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발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2005-09 |
과제시작연도 | 2004 |
주관부처 | 과학기술부 |
등록번호 | TRKO200700003085 |
과제고유번호 | 1350010007 |
사업명 | 원자력연구개발사업(양성자기반공학기술개발) |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 이온빔, 정밀금형, 이온원, 빔이용, 실용화, 표면연마.Ion beam, Mold & Die, Ion Source, Beam Application, Technology Transfer, Ion Beam Sputtering. |
이온빔 조사 표면연마기술은 원자 또는 분자를 이온화 한 후 수-수십 keV의 에너지로 가속, 소재표면에 조사시켜 원자간 결합을 파괴하여 떼어냄으로서 표면거칠기를 감소시키는 표면개질 기술이다. 이러한 기술은 표면 거칠기가 ㎛이하의 정밀도가 필요한 정밀 제품의 표면연마에 적용됨으로서 이미 선진국에서는 이러한 기술개발을 통해 산업기술에 적용하고 있다. 이러한 이온빔 조사 표면연마기술은 정밀성에 있어서 탁월한 점이 있으나, 공정단가가 비싸서 산업화에 어려움이 있지만, 점차 장치와 공정의 단순화를 통한 저가 장비 개발에 힘입어 산업적용 연구
Ion beam sputtering technique, one of the surface modification techniques, is to reduce surface roughness of materials with selective detaching atoms and micro particles from the surface by bombarding energetic ions of a few to a few tens keV onto the materials surfaces. This technique can be applie
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