초록 ▼

$\cir$ 플라즈모닉 리소그래피 기법을 사용하여 나노 패턴을 제작하였다.
- C 형 나노 개구를 접촉 노광 방식을 사용하여 40 ~ 80 nm 크기 패턴 기록
- 표면 플라즈몬 간섭 리소그래피 시스템을 사용하여 패턴 폭 60 ~ 100 nm 간섭무늬 패턴 기록
$\cir$ 단일 나노 광 프로브를 이용한 패터닝 장치 설계 및 제작하였다.
- 고 투과 나노 개구 광 프로브 제작
- 단일 나노 광 프로브를 이용한 장치 설계 및 제작
$\cir

$\cir$ 플라즈모닉 리소그래피 기법을 사용하여 나노 패턴을 제작하였다.
- C 형 나노 개구를 접촉 노광 방식을 사용하여 40 ~ 80 nm 크기 패턴 기록
- 표면 플라즈몬 간섭 리소그래피 시스템을 사용하여 패턴 폭 60 ~ 100 nm 간섭무늬 패턴 기록
$\cir$ 단일 나노 광 프로브를 이용한 패터닝 장치 설계 및 제작하였다.
- 고 투과 나노 개구 광 프로브 제작
- 단일 나노 광 프로브를 이용한 장치 설계 및 제작
$\cir$ 50nm 급 나노 개구 설계 및 나노 개구의 고 투과 원리 연구와 새로운 개구 디자인을 제안하였다.
- 고 투과 나노 개구 투과 원리 연구 및 8 형 나노 개구를 제안
- 나노 개구를 이용한 고 개구수 렌즈의 수차 측정
- 자유 전자의 열 운동에 의한 나노 개구의 고 투과 특성 분석
$\cir$ 플라즈모닉 리소그래피 공정 모델을 개발하여 근접장에서 패턴 결과를 예측하는 방법을 제안하였다.
- 근접장 노광 시 국부화된 전기장에 의해 노광된 감광제의 패턴 형상 예측방법 개발

Abstract ▼

Development of plasmonic nano lithography process technology
$\cir$ Design of high transmitted contact laser nano probe
$\cir$ Lithography process using the surface plasmon and surface plasmon interference
$\cir$ Development of the nano process technique

Development of plasmonic nano lithography process technology
$\cir$ Design of high transmitted contact laser nano probe
$\cir$ Lithography process using the surface plasmon and surface plasmon interference
$\cir$ Development of the nano process technique using parallel laser probe
$\cir$ Development of the driving technology for the single contact laser optical head
Development of the lithography technique using a single contact laser probe
$\cir$ Design and fabrication of the lithography equipment using a single contact laser probe

목차 Contents

• 제 1 장 연구개발과제의 개요...16
• 1 절. 기술개발의 목적...16
• 2 절. 기술 개발의 과학기술, 사회경제적 필요성...16
• 제 2 장 국내외 기술개발 현황...20
• 1 절. 국내 기술개발 현황...20
• 2 절. 국외 기술개발 현황...30
• 3 절. 현 기술 개발의 취약성...32
• 제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과...33
• 1 절. 8 형 나노개구의 파동 전파 특성...33
• 2 절. 자유 전자의 열운동의 효과에 의한 나노 개구의 투과 특성...45
• 3 절. 표면 플라즈몬 가시화...54
• 4 절. C 형 나노 개구 설계 및 점 패터닝...90
• 5 절. 고 투과 C 형 나노 개구에 대한 분광분석 기법을 이용한 최적화...102
• 6 절. 표면 플라즈몬 간섭을 이용한 나노 슬릿설계, 제작 및 패터닝...110
• 7 절. 접촉식 단일 레이저 광 프로브를 이용한 리소그래피 기술 개발...150
• 8 절. 국부화된 전기장에 의해 노광된 감광제의 패턴 형상예측...201
• 9 절. Silver nano super lens의 confocal 변수의 변화...211
• 10 절. 나노 개구와 Shack-Hartmann 센서를 이용한 고 개구수 광부품 수차 측정...220
• 제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도...228
• 1 절. 연구 성과 및 목표 달성도...231
• 2 절. 연구 관련 분야에 기여도...236
• 제 5 장 연구개발결과의 활용계획...239
• 1 절. 정보조사 결과의 활용 방안 및 기대효과...239
• 2 절. 정책적 제안 (컨소시엄, 과제화 등)...239
• 3 절. 산업체와의 연계 방안...240
• 제 6 장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보...241
• 1 절. EUV 리소그래피 기술...241
• 2 절. 나노 압인 기술...246
• 3 절. 이머젼 리소그래피 기술...256
• 4 절. 나노 광자 소자...259
• 제 7 장 참고문헌...276