$\require{mediawiki-texvc}$
  • 검색어에 아래의 연산자를 사용하시면 더 정확한 검색결과를 얻을 수 있습니다.
  • 검색연산자
검색연산자 기능 검색시 예
() 우선순위가 가장 높은 연산자 예1) (나노 (기계 | machine))
공백 두 개의 검색어(식)을 모두 포함하고 있는 문서 검색 예1) (나노 기계)
예2) 나노 장영실
| 두 개의 검색어(식) 중 하나 이상 포함하고 있는 문서 검색 예1) (줄기세포 | 면역)
예2) 줄기세포 | 장영실
! NOT 이후에 있는 검색어가 포함된 문서는 제외 예1) (황금 !백금)
예2) !image
* 검색어의 *란에 0개 이상의 임의의 문자가 포함된 문서 검색 예) semi*
"" 따옴표 내의 구문과 완전히 일치하는 문서만 검색 예) "Transform and Quantization"
쳇봇 이모티콘
안녕하세요!
ScienceON 챗봇입니다.
궁금한 것은 저에게 물어봐주세요.

보고서 상세정보

초고속 배선을 위한 저온 Cu 원자층 증착기술 및 Cu/barrier/low-k integration 기술 개발

Atomic layer deposition of Cu film and Cu/barrier/low-k integration for high speed interconnect

주관연구기관 포항공과대학교
Pohang University of Science and Technology
연구책임자 용기중
참여연구자 김재현
보고서유형 최종보고서
발행국가 대한민국
언어 한국어
발행년월 2005-06
주관부처 정보통신부
사업 관리 기관 정보통신산업진흥원
등록번호 TRKO201000017529
DB 구축일자 2013-04-18
초록

본 연구는 앞서 제시한 연구목적에 따라 그에 맞는 연구방법에 의해 진행되었다. 크게
플라즈마를 이용한 구리 원자층 증착 연구와 증착된 구리 박막의 특성 평가 및
Cu/barrier/low-k integration 기술 개발...

Abstract

① Atomic layer deposition of Cu film
(Hfac)Cu(I)(DMB) was used as a Cu precursor. The Cu films were deposited
on the Ta/Si s...

연구자의 다른 보고서