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NTIS 바로가기주관연구기관 | 서울대학교 Seoul National University |
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연구책임자 | 이종찬 |
보고서유형 | 1단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2009-04 |
과제시작연도 | 2008 |
주관부처 | 교육과학기술부 |
과제관리전문기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO201100005120 |
과제고유번호 | 1345075238 |
사업명 | 원자력연구기반확충사업 |
DB 구축일자 | 2015-01-08 |
태양전지, 플렉서블 디스플레이, RFID 센서 등 미래 유망 산업이 발전하기 위하여 동반 발전해야하는 분야는 바로 전도성 나노 배선 제조 분야이다. 현재는 스퍼터링, CVD, 진공증착 등과 같은 방법을 이용하여 전도성 배선을 제조하고 있으나 이 경우, 진공 조건이 필수적이라는 점과 공정 단계가 복잡하다는 등의 문제점을 가지고 있어 개선이 필요하다. 최근 이러한 한계를 극복하고자 금속 나노 페이스트 혹은 전도성 고분자 물질을 기판에 직접 프린팅한 후 열로 소성하여 나노 배선을 제조하는 기술이 개발되어 각광받고 있다. 이 기술은 저가로
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