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NTIS 바로가기주관연구기관 | 서울대학교 Seoul National University |
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연구책임자 | 김재필 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2008-06 |
과제시작연도 | 2007 |
주관부처 | 중소기업청 |
사업 관리 기관 | 중소기업기술정보진흥원 |
등록번호 | TRKO201100008499 |
과제고유번호 | 1425044894 |
사업명 | 산학연 공동기술개발 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
1. 최종목표
최대흡수파장 590±5nm, 반가폭 50nm이하, 몰흡광계수 10만 이상, 시감평균 투과율 70%이상을 만족하는 신규 Ne-cut 염료의 확보
2. 개발내용 및 결과
특허를 회피하며 목표물성을 만족할 가능성이 높은 염료군을 선정
세부구조를 설계하여 신규 Ne-cut 염료 합성하고 합성 과정 최적화 진행
목표 물성을 만족하는 5종의 신규 Ne-cut 염료를 확보
3. 사업성과
특허회피가 가능한 신규 Ne-cut 염료의 확보는 선진국의 기술의존적인 면에서 탈피하여 PDP 필터
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