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과제명 | 반도체공정용 Ceramic Heating Susceptor 개발 |
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주관연구기관 | (주)메카로닉스 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2011-11 |
과제시작년도 | 2010 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201200006419 |
과제고유번호 | 1425064209 |
사업명 | 첨단연구장비활용사업 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 반도체.세라믹.히팅척.질화알루미늄.화학기상증착법. |
본 과제는 반도체 제조공정인 PVD(physical vapor deposition), CVD(chemical vapor deposition), Photo PR Baking 및 Asher 장비의 chamber 내에서 사용되며, 웨이퍼(...
본 과제는 반도체 제조공정인 PVD(physical vapor deposition), CVD(chemical vapor deposition), Photo PR Baking 및 Asher 장비의 chamber 내에서 사용되며, 웨이퍼(wafer)를 지지하고 웨이퍼에 열에너지 또는 열에너지와 플라즈마(plasma) 에너지를 공급하여 주는 부품에 관한 기술이다.
기존 장비에서는 알루미늄 재질을 사용하는 저온용과 인코넬(inconel)을 사용하는 고온용 금속 히터블록(heater block)으로 제작되었으나, 최근에는 내 부식성이 뛰어나고 열전도율이 우수한 질화알루미늄(aluminium nitride, AlN) 소재를 사용한 세라믹 히터블록의 사용이 급격히 증가하고 있다.
참여 연구원 |
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보고서 내 다른 이미지
과제명(ProjectTitle) : | 반도체공정용 Ceramic Heating Susceptor 개발 |
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연구책임자(Manager) : | 정태성 |
과제기간(DetailSeriesProject) : | 2009 ~ 2010 |
총연구비 (DetailSeriesProject) : | 145,000,000원 |
키워드(keyword) : | 반도체, 세라믹, 히팅척, 질화알루미늄, 화학기상증착법 |
과제수행기간(LeadAgency) : | (주)메카로닉스 |
연구목표(Goal) : | [1차년도 목표] 1. Plate type susceptor 개발 (1) Working 온도 : > 300℃ (2) 온도 uniformity : 100 W/mK (4) 절연층 내전압 : > 1 kV (5) 표면 조도 : 400℃ (2) 온도 uniformity : 150 W/mK (4) 절연층 내전압 : > 2 kV (5) 표면 조도 ... |
연구내용(Abstract) : | 최근 12인치 반도체 산업의 활성화에 따라 국내, 외 소자업체의 신규투자 활성화와 장비업체들의 투자도 활기를 띠고 있다. 반도체 장비에서의 히터블록 소재는 기존의 알루미늄 히터에서 고온과 NF3 등 부식성 가스에 강하고 내구성이 우수한 세라믹 히터로 많은 공정에서 변경 적용되고 있으며, 국내 반도체 소자업체를 비롯한 장비업체에서도 세라믹 히터블록의 채택이 ... |
기대효과(Effect) : | (1) 기술적 측면 불과 몇 년 전까지만 하더라도 국내에 사용되는 대부분의 반도체 공정용 재료들은 거의 미국, 일본, 그리고 유럽 등에서 수입되었으며, 최근 몇 년 사이에 소자업체에서 국산 원재료 수급의 필요성자업인식하게 되었다. 이에 따라 국내 재료업체들은 초창기 기술적인 어려움자업극복하고 국외기술과 거의 대등한 수준에까지 오르게 되었다. 본... |
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구성항목 |
관리번호, 제목(한글), 저자명(한글), 발행일자, 전자원문, 초록(한글), 초록(영문)
관리번호, 제목(한글), 제목(영문), 저자명(한글), 저자명(영문), 주관연구기관(한글), 주관연구기관(영문), 발행일자, 총페이지수, 주관부처명, 과제시작일, 보고서번호, 과제종료일, 주제분류, 키워드(한글), 전자원문, 키워드(영문), 입수제어번호, 초록(한글), 초록(영문), 목차
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