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반도체 공정용 Ceramic Heating Susceptor 개발

보고서 정보
주관연구기관 (주)메카로닉스
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2011-11
과제시작연도 2010
주관부처 중소기업청
Small and Medium Business Administration
등록번호 TRKO201200006419
과제고유번호 1425064209
사업명 첨단연구장비활용사업
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 반도체.세라믹.히팅척.질화알루미늄.화학기상증착법.

초록

본 과제는 반도체 제조공정인 PVD(physical vapor deposition), CVD(chemical vapor deposition), Photo PR Baking 및 Asher 장비의 chamber 내에서 사용되며, 웨이퍼(wafer)를 지지하고 웨이퍼에 열에너지 또는 열에너지와 플라즈마(plasma) 에너지를 공급하여 주는 부품에 관한 기술이다.
기존 장비에서는 알루미늄 재질을 사용하는 저온용과 인코넬(inconel)을 사용하는 고온용 금속 히터블록(heater block)으로 제작되었으나, 최근에는 내 부식성이 뛰

목차 Contents

  • 제출문 ... 1
  • 요약서(초록) ... 2
  • 목차 ... 3
  • 제 1 장 개발기술의 개요 ... 4
  • 제 1 절 대상기술의 개요 ... 4
  • 제 2 절 기술개발 필요성 ... 6
  • 제 3 절 국내.외 관련기술의 현황 ... 7
  • 재 2 장 개발목표 및 개발내용 ... 10
  • 제 1 절 기술개발 목표 ... 10
  • 제 2 절 세부 개발내용 및 방법 ... 13
  • 1. CVD 증착 공정 개발 ... 13
  • 가. 텅스텐 증착 공정 개발 ... 13
  • 나. AlN 증착공정 개발 ... 32
  • 2. Ceramic Heating susceptor 개발 ... 54
  • 가. Plate type susceptor 개발 ... 54
  • 나. Block type susceptor ... 68
  • 제 3 장 성과요약 및 기대효과 ... 84
  • 제 1 절 성과 요약 ... 84
  • 제 2 절 기대 효과 ... 85
  • 참고문헌 ... 87
  • 첨부 1 : 8인치 챔버 구조도 ... 89
  • 첨부 2 : 8인치 이중샤워헤드 ... 90
  • 첨부 3 : 18인치 챔버 구성도 ... 91
  • 첨부 4 : 18인치 샤워헤드 구성도 ... 92
  • 첨부 5 : 18인치 샤워헤드 ... 93
  • 첨부 6 : 18인치 히터블록 ... 94
  • 첨부 7 : 200cc canister ... 95
  • 첨부 8 : 2L canister ... 96
  • 첨부 9 : 2L canister heater ... 97
  • 첨부 10 : 6인치용 패턴 ... 98
  • 첨부 11 : 열전도도 성적서 ... 99
  • 첨부 12 : AlN heater block 도면 ... 100
  • 첨부 13 : 특허등록증1 ... 101
  • 첨부 14 : 특허등록증2 ... 102
  • 첨부 15 : 특허등록증3 ... 103

표/그림 (91)

참고문헌 (25)

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