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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)메카로닉스 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2011-11 |
과제시작연도 | 2010 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201200006419 |
과제고유번호 | 1425064209 |
사업명 | 첨단연구장비활용사업 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 반도체.세라믹.히팅척.질화알루미늄.화학기상증착법. |
본 과제는 반도체 제조공정인 PVD(physical vapor deposition), CVD(chemical vapor deposition), Photo PR Baking 및 Asher 장비의 chamber 내에서 사용되며, 웨이퍼(wafer)를 지지하고 웨이퍼에 열에너지 또는 열에너지와 플라즈마(plasma) 에너지를 공급하여 주는 부품에 관한 기술이다.
기존 장비에서는 알루미늄 재질을 사용하는 저온용과 인코넬(inconel)을 사용하는 고온용 금속 히터블록(heater block)으로 제작되었으나, 최근에는 내 부식성이 뛰
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